판매용 중고 VARIAN E11004390 #148167

VARIAN E11004390 (VARIAN E11004390) 은 효율적이고 안정적이며 비용 효율적인 재료 구현 및 모니터링을 위해 설계된 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 이 장치 는 "실리콘 웨이퍼 '와 같은 기판 에 정확 하게 배치 된" 패턴' 과 구조 를 만들기 위한 목적 으로 "반도체 '산업 에 사용 된다. 이온 이식 (ion implantation) 은 높은 에너지 수준에서 이온이 생성되고 기질로 가속되는 과정이다. "이온 '이 기질 의 원자 와 충돌 함 에 따라, 그" 이온' 은 물질 에 포함 된다. 이러 한 과정 을 통해 "트랜지스터 '나" 레지스터' 와 같은 장치 를 형성 하는 데 사용 될 수 있는 조그마 한 특징 을 만들 수 있다. E11004390은 붕소, 갈륨, 비소, 인, 인듐을 포함한 다양한 이온을 이식 할 수 있습니다. 이 장치에는 소프트웨어 제어 이온 소스, 가속 열 및 빔 매핑 장비가 포함됩니다. "이온 '원 은 높은" 에너지' 에서 "이온 '을 만들어내며, 가속" 열' 은 "이온 '을 원하는 수준 으로 가속 시킨다. 빔 매핑 (beam mapping) 시스템은 이온이 기판의 올바른 영역에 올바르게 정렬되도록 합니다. VARIAN E11004390 에는 온도, 압력, 가속 등 모든 프로세스 변수에 대한 실시간 모니터링을 제공하는 고급 제어 장치 (advanced control unit) 가 장착되어 있습니다. 이를 통해 이온 이식 프로세스를 정확하게 제어 할 수 있습니다. E11004390 에는 최대 6 개의 서로 다른 기판에 정보를 저장할 수있는 데이터 로깅 머신도 포함되어 있습니다. 이 정보는 디바이스 성능 및 프로세스 추세 추적에 시간이 지남에 따라 액세스할 수 있습니다. 이 장치의 설계에는 기판 (Subtrate) 수율을 향상시키고 산업 표준이 된 다양한 다른 기능도 포함되어 있습니다. 여기에는 원치 않는 이온이 빔에 들어가는 것을 방지하는 이온 격리 도구 (ion isolation tool) 와 먼지와 입자로부터 성분을 보호하기 위해 완전히 밀봉 된 인클로저 (enclosure) 가 포함됩니다. 전반적으로 VARIAN E11004390 (Varian E11004390) 은 고급 이온 임플랜터 및 모니터로, 뛰어난 재료 임플랜팅 및 모니터링을 제공하도록 특별히 설계되었습니다. 이 장치는 반도체 업계를 위한 효율적이고 경제적인 솔루션을 제공하며, 다양한 기능을 통해 사용자들이 최고의 품질의 자재 (material) 와 기술 (technology) 을 이용할 수 있도록 합니다.