판매용 중고 VARIAN E1000 #158184

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ID: 158184
Implanter chamber control rack Components: § Varian Plasma Flood and Bias Supply § Kollmorgen DC Brushless Amplifier BDS3-230/55-28-220 § Kollmorgen Power Supply PSR3-230/50-07-003 § (3) Infranor Resolver SMTBS § Varian 112729001 § Varian 113136001 § Mavilor Motors SE0718-07057 § MKS Baratron 122AA-00010DB § Brooks 5850E Mass Flow Controller 9408HC034101 Top works for the gate valves not included As is.
VARIAN E1000 (VARIAN E1000) 은 반도체 장치 제조에서 초고순도, 정확하고 일관된 도펀트 프로파일을 생산하는 데 사용되는 완전한 이온 임플란테이션 및 모니터링 장비입니다. VARIAN E-1000 시스템은 갈수록 복잡해지는 구성 프로세스를 지원하기 위해 포괄적인 유연성을 제공하여 이온 (ion) 이온 (implantation) 프로파일을 개발, 선택 및 최적화합니다. 고급 빔라인 (beamline) 전원 및 소스 기술과 강력한 제어 장치, 고해상도 제품 피드백을 결합합니다. E 1000 의 향상된 빔라인 파워와 소스 구성은 높은 빔 전류 (high beam current) 와 입자 균일성을 통해 고속 성능을 제공합니다. 자동 교정식 (autocalibration) 을 갖춘 프로그래밍 가능한 고전압 전원 공급 장치는 탁월한 프로세스 제어 및 반복성을 보장하는 반면, 빔라인 매핑 (beamline-mapping) 기술은 정확하고 반복 가능한 빔 정확성을 보장하기 위해 각도 분포를 차지합니다. 고해상도 이온 빔 프로파일링 센서를 사용하면 프로세스 최적화를 위해 임플란트 프로파일을 정확하게 모니터링할 수 있습니다. E1000 의 포괄적인 제어 시스템은 자동화, 효율적인 데이터 처리 기능을 제공하여 프로세스 개발, 설치, 최적화를 용이하게 합니다. 실시간 제어 도구를 사용하여 VARIAN E 1000은 빔 변조, 빔 아칭 및 기타 적응형 동적 제어 기능을 수행하여 빔 성능을 최적화합니다. 또한, E-1000의 고급 멀티 플렉싱 기능은 균일 한 용량과 에너지를 가진 다양한 종의 동시 임플란트를 가능하게합니다. VARIAN E1000의 고해상도 제품 피드백은 안정적이고 일관된 제품 품질을 보장합니다. 고해상도 제품 피드백 시스템은 임플란트 프로파일 문제 및 기타 매개변수를 식별하는 데 도움이 됩니다. 또한 VARIAN E-1000의 고급 프로세스 모니터링 소프트웨어를 통해 운영자는 빔 프로세스 문제를 실시간으로 모니터링, 진단, 문제 해결하여 프로세스 최적화, 가동 시간 향상 등의 작업을 수행할 수 있습니다. E 1000은 유연하고 정확하며 안정적인 이온 임플란테이션을 위해 설계되었습니다. 강력한 기능 세트, 통합 제어 자산, 고해상도 (High Resolution) 제품 피드백이 결합되어 가장 까다로운 어플리케이션에 뛰어난 처리량, 반복 성능, 제품 품질을 제공합니다.
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