판매용 중고 EATON NOVA / AXCELIS NV GSD-HE #140297

EATON NOVA/AXCELIS NV GSD-HE는 컴퓨터 제어 이온 임플랜터 (implanter) 및 모니터 장비로, 생산성 및 시스템 가동 시간이 가장 높은 반도체 장치를 정확하게 구현하도록 설계되었습니다. 이식 수율을 극대화하고 가장 효율적인 이식 프로세스를 달성하도록 설계된 고급 (advanced) 기술을 제공합니다. AXCELIS NV GSD HE는 Ion Source Driver, Beam Current Monitor, Gas Panel 및 Process Control Unit을 포함한 여러 모듈로 구성됩니다. 이 기계는 AXCELIS HC/HE (High Current/High Energy) 또는 EATON NOVA LC/HE (Low Current/High Energy) 이식 플랫폼과 함께 사용하도록 설계되었습니다. 이온 소스 드라이버 (Ion Source Driver) 는 도구의 핵심이며 빔 전류를 정확하게 제어하여 정확하고 안정적인 이식 프로세스를 제공합니다. 이를 통해 정확한 재생성과 낮은 수준의 임플란트 수확이 가능합니다. 빔 전류 모니터 (Beam Current Monitor) 는 정밀한 빔 전류 모니터링을 통해 최고 수준의 안정성과 안정성을 보장합니다. 임플란테이션 프로세스의 결과를 모니터링하여 최대 수준의 정밀도 (Precision) 및 반복성 (Repeatability) 을 허용합니다. "가스 '" 패널' 은 "가스 '흐름 을 정확 히 제어 하여 착상 을 최적화 할 수 있게 해 준다. 공정 제어 자산 (Process Control Asset) 은 임플란테이션을 빠르고 정확하게 제어하여 상세한 데이터 기록 및 제어를 가능하게 합니다. EATON NOVA NV-GSD HE (EATON NOVA NV-GSD HE) 는 통합 장애 분석 시스템 (Integrated Failure Analysis Systems) 과 같은 고급 기능을 제공하여 운영 체제가 모든 디바이스 장애의 원인을 신속하게 해결할 수 있도록 하고, 이식 프로세스를 정확하게 제어할 수 있도록 정교한 소프트웨어 툴을 제공합니다. 이 모델은 정교한 진단 (diagnostic) 기능을 통해 발생하는 모든 문제를 빠르고 효율적으로 해결할 수 있습니다. 전반적으로 EATON NOVA NV-GSD-HE는 정확하고, 안정적이며, 반복 가능한 이식 프로세스를 제공하며, 정확하고 정확한 장치 제조 수율을 달성하는 데 중요한 요소입니다. 고급 (Advanced) 기능을 제공하며, 안정적이고 효율적인 작동을 제공하므로 모든 반도체 장비 설정에서 필수적인 요소입니다.