판매용 중고 DNS / DAINIPPON LA-3000F #9009841

DNS/DAINIPPON LA-3000F는 반도체 웨이퍼의 고속, 저렴한 열 처리를 위해 설계된 고급 고속 열 프로세서입니다. 세라믹 E-Beam 소스, 고급 온도 조절, 전체 웨이퍼 표면에 대한 정확한 온도 균일 성을 갖추고 있습니다. DNS LA-3000F에 사용되는 Electronics Beam (E-Beam) 소스는 낮은 드리프트 및 시야선 조명으로 고속 처리를 위해 설계되었습니다. 이 장치는 또한 온도 균일성과 신뢰성을 향상시키기 위해 쿼츠 라이트 트랩 (quartz light-trap) 과 엔탈피 밸런스 챔버 (enthalpy balance chamber) 를 갖추고 있습니다. 대부분의 다른 빠른 열 프로세서보다 더 강력한 가열 요소와 더 큰 챔버를 사용합니다. 그 결과 전체 웨이퍼 표면에서 균일 한 가열을위한 빠른 온도 증가 속도 (rate temprop-up rate) 및 빠른 열 전달 (rapid heat transfer) 이 발생합니다. DAINIPPON LA-3000F에는 고급 온도 컨트롤러가 장착되어 있으며, 0.1 ° C 단위로 50 ° C ~ 1100 ° C의 정확한 온도 조절이 가능합니다. 또 와퍼 (wafer) 표면 전체의 온도를 실시간으로 모니터링하고 그에 따라 온도를 조정하는 고정밀도 균일성 센서 (uniformity sensor) 도 장착했다. 이를 통해 특정 공차 내에서 웨이퍼의 균일 한 난방 및 냉각이 보장됩니다. 또한, 장치에는 최대 1 초 간격으로 온도를 기록 할 수있는 빠른 차트 레코더가 포함되어 있습니다. LA-3000F 에는 안정적이고 효율적인 작동을 보장하는 다양한 안전 기능이 포함되어 있습니다. 석영 라이트 트랩 및 엔탈피 밸런스 챔버는 E-Beam에 의해 생성 된 길 잃은 광자와 열 불균형을 제거합니다. 또한 처리 중 중단되는 레시피를 복구하는 자동 복구 시스템 (Automatic Recover System) 도 갖추고 있습니다. 마지막으로, 세라믹 웨이퍼 캐리어는 정확한 웨이퍼 정렬을 보장하는 반면, 쿼츠 창은 폭발로부터 안전을 보장합니다. DNS/DAINIPPON LA-3000F는 반도체 웨이퍼의 빠른 열 처리에 이상적인 장치이며, 많은 고급 제조 공장의 필수 구성 요소입니다. 이 제품은 정확한 온도 조절, 빠른 열 전송, 고급 안전 기능, 성능 최적화를 위한 향상된 균일성을 제공합니다. 고속, 저비용 열 처리에 이상적인 선택입니다.