판매용 중고 SVG 8100 #168381

SVG 8100은 집적 회로 및 기타 나노 구조의 미세 조정에 사용되는 복잡한 광석학 장비입니다. 이것 은 "스테퍼 포토레지스트 '체계 로서, 광선 을 사용 하여 미세 한" 패턴' 이나 형상 을 기판 으로 전달 하는 데 사용 되는 기술 의 일종 이다. 이 장치는 웨이퍼 스테이지, 스테퍼, 포토 마스크 및 광원의 4 가지 주요 구성 요소로 구성됩니다. 웨이퍼 스테이지 (wafer stage) 는 포토리스토그래피 프로세스 동안 기판을 고정하는 데 사용되며, 가장 정확한 동작을 제공하도록 설계되었으며, 기판이 광원과 올바르게 정렬되도록 설계되었습니다. "스테퍼 '는" 패턴' 생성 과 영상 을 기판 위 에 놓을 수 있는 여러 가지 수준 의 "렌즈 '를 갖추고 있다. 포토 마스크 (photomask) 는 원하는 패턴을 기판으로 옮기는 데 사용되며, 일반적으로 트랜지스터, 배선 다이어그램 및 기타 마이크로 일렉트로닉 구조와 같은 이미지로 구성됩니다. 마지막으로, 광원은 원하는 패턴을 기판에 노출시키는 데 필요한 에너지를 제공합니다. 8100은 EQC라는 정교한 컴퓨터 머신을 사용하여 전체 프로세스를 제어합니다. EQC 는 소프트웨어 기반 스테이지 제어, 정교한 조명 자산, 이미징 특성 등의 기능을 제공하는 툴의 핵심 요소입니다. 컴퓨터 기반 기계 제어 모델은 노출 특성을 사용자 정의하여 최고 수준의 정밀도 (precision) 및 패턴 충실도 (pattern fidelity) 를 달성 할 수 있습니다. 이 기계는 또한 고도로 자동화되어 있으며, '최적화 된 자동 프로세스 최적화 (optimized automatic process optimization)' 를 제공하여 최대 해상도를 달성하고 이터레이션을 줄였습니다. 사용자는 자체 설계 매개변수와 빔 특성을 프로그래밍하여 사용자 정의 패턴을 달성 할 수도 있습니다. 마지막으로, 이 시스템은 다중 레이어 이미징 (multi-layer imaging) 을 지원하므로 단일 및 다중 레벨 이미징을 모두 지원할 수 있습니다. 무엇보다도, SVG 8100 포토레시스트 (photoresist) 장비는 미세 구조의 무동력 이미징을 기판으로 제공하도록 강력하고, 신뢰할 수 있으며, 고도로 기술적인 시스템입니다. 이 제품은 매우 복잡하고 자동화되어 있으며, 광범위한 애플리케이션에 대해 특징적으로 정확한 결과를 제공합니다.