판매용 중고 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Polaris 2000 #9278707

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON POLARIS 2000은 다양한 장치의 제작을 지원하기 위해 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 "시스템 '은 광전물질 로 알려진 액체 화합물 을 사용 하는데, 이 화합물 은 빛 을 비출 때 반응 을 일으킨다. 광선 (Light) 은 photoresist 물질을 선택적으로 노출시켜 photoresist 레이어의 패턴을 컴퓨터로 제어하는 광선을 사용하여 달성 할 수 있습니다. FSI Polaris 2000은 자외선 노출 도구 (Ultraviolet Exposure Tool) 로, 정확성 측면에서 무수한 디자인의 생산에 적합합니다. 이 장치는 모든 종류의 마이크로 일렉트로닉 장치를 만드는 데 이상적인 선택이며, 자외선 레이저 출력 (최대 300mW/cm ²) 을 갖춘 리소그래피 성능을 갖습니다. 이 도구에는 진정한 2 차원 내부 웨이퍼 스테이지, z 스테이지, 회전 스테이지, 자동 노출 또는 수동 노출, 습도 제어 장치 등 고급 제어 기능이 장착되어 있습니다. 이 기계는 또한 다크 필드 툴 (dark field tool), 다양한 종류의 초점 개발 기법, 필름 두께 제어 (film thickness control), 향상된 프로세스 제어 등 다양한 자동 프로세스 제어 기능을 갖추고 있습니다. TEL 폴라리스 2000 (TEL Polaris 2000) 은 이러한 포토 esist 첨가적 접근법을 사용하여 패턴을 개발할 때 유연성을 제공하는 스테핑 도구로 사용될 수도 있습니다. 이 에셋을 사용하면 단일 마스크 웨이퍼 (masked wafer) 와 다양한 기판 및 장치 형상의 정밀도 (precision patterning) 를 사용하여 여러 패턴을 생성할 수 있습니다. 이 도구의 자동 정렬 기능 (auto-alignment feature) 을 통해 단일 웨이퍼에서 여러 레이어를 보다 정확하게 정렬할 수 있습니다. 포토리스 (photoresist) 모델의 최적의 작업 조건을 유지하는 것과 관련하여 Polaris 2000은 다양한 환경 제어 기능을 제공합니다. 이 장비에는 습도 및 온도 조절을위한 내장 필터 시스템 (filter system) 과 공정에 대한 외부 조건의 영향을 줄이는 내장 진동 격리 테이블 (Bist-In Vibration Isolation Table) 이 있습니다. photoresist 개발 프로세스의 신뢰성을 극대화하기 위해 TOKYO ELECTRON Polaris 2000에는 일정한 출력 전력 모니터링 장치 (Power Monitoring Unit) 와 내장 초점 비율 모니터링 머신 (Focus Ratio Monitoring Machine) 이 있습니다. 결론적으로 FSI의 FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Polaris 2000은 다양한 장치의 제작을 지원하기 위해 설계된 고급 포토 esist 도구입니다. 자산에는 다양한 리소그래피 성능을 위한 고급 제어 (Advanced Control) 기능이 장착되어 있으며, 최적의 작업 조건을 위한 충분한 환경 제어 기능도 갖추고 있습니다. 이 모델은 패턴을 개발할 때 유연성과 정밀도를 제공하는 스테핑 (stepping) 도구로 사용할 수 있으며, 어떤 종류의 마이크로 일렉트로닉 (microelectronic) 장치에 이상적입니다.