판매용 중고 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Polaris 2000 #9167965

FSI/TOKYO ELECTRON FSI/TEL/TOKYO ELECTRON POLARIS 2000 포토 esist 장비는 반도체 및 집적 회로 제조에 사용되는 고급 사진 분석 도구입니다. 사용자는 집적 회로 구성 요소에 정확한 회로 패턴을 만들 수 있습니다. 이 시스템에는 고해상도 프로젝션 렌즈, 고속 스테퍼, 쿼츠 레이저 소스, 독점 자동 노출 장치가 있습니다. 이 기계는 높은 수율과 향상된 생산성을 달성하면서 서브 미크론 (sub-micron) 수준의 해상도를 제공합니다. 탁월한 옵틱을 사용하면 구성 요소가 추가되지 않고도 작은 기능을 직접 이미징할 수 있습니다 (영문). 이 도구에는 정교한 초점 길이 제어 에셋 (focal length control asset) 이 포함되어 있어 복잡한 패턴을 만들 때 사용자가 최적의 수준의 정확성을 얻을 수 있습니다. FSI Polaris 2000은 정밀도 및 고속 스테퍼 모터를 모두 갖추고 있으며, 따라서 사용자는 최상의 결과를 제공하는 노출 매개변수를 선택할 수 있습니다. 이 모델은 제조 공정에서 정확한 레이어 두께를 전달하기 위해 스프레이 (spray) 및 스핀 (spin) 코팅 프로세스를 모두 지원합니다. 이 장비에는 우수한 마이크로 포커스와 높은 노출 성능을 제공하는 쿼츠 레이저 소스 (quartz laser source) 도 포함되어 있습니다. TEL Polaris 2000에서 관리하는 독점 자동 노출 시스템 (Automated Exposure System) 은 노출 시간을 줄이고 수익률을 극대화하기 위해 설계되었습니다. 자동 노출 장치 (automated exposure unit) 는 고급 알고리즘을 사용하여 주어진 기판에 대한 최적의 노출 매개변수를 결정합니다. 또한 프로세스 종속 변수 (process-dependent variable) 를 자동으로 조정하고 시간이 지남에 따라 공구 매개변수의 드리프트를 수용합니다. 에셋에는 쉽게 작동할 수 있도록 직관적인 터치 스크린 인터페이스가 포함되어 있습니다. TOKYO ELECTRON Polaris 2000의 작동 범위는 넓으며, 사용자는 최대 0.1 미크론 크기의 기능을 만들 수 있습니다. 이 모델은 단단한 공간에 적합하도록 설계되었으며, 다양한 워크셀 레이아웃 (workcell layout) 에 맞게 다양한 구성으로 제공됩니다. 이 장비는 다양한 포토 esist 재료와 호환되며 열 시스템 (thermal and non-thermal system) 과 함께 사용할 수 있습니다. 폴라리스 2000 (Polaris 2000) 은 다양한 반도체 및 집적 회로 응용 분야에 적합한 고급 사진 분석 시스템입니다. 고해상도 프로젝션 렌즈, 고속 스테퍼 (high-speed stepper), 쿼츠 레이저 소스 (quartz laser source) 및 자동 노출 장치 (automated exposure unit) 는 사용자가 각 업계에서 탁월한 정확도, 속도 및 수율을 제공합니다.