판매용 중고 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Polaris 2000 #9158303

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON POLARIS 2000은 차세대 고급 집적 회로 제조를 위해 설계된 포토 esist 처리 장비입니다. 감광 물질 (Photoresist Processing) 은 집적 회로 (Integrated Circuit) 를 제작하는 데 필수적인 기술입니다. FSI Polaris 2000에는 포토 esist 코팅의 균일성을 촉진하기 위해 고급 양면 회전 웨이퍼 홀더가 장착되어 있습니다. 이 시스템에는 습식 처리 스테이션 (wet processing station) 이 포함되어 있으며, 효율적인 제조를위한 자동 모듈 세척과 자동 반사 방지 코팅 (anti-reflective coating) 이 있습니다. 이 장치는 정확한 패턴 등록 (pattern registration) 과 고해상도 (high resolution) 광학 성능을 보장하여 반도체 웨이퍼에서 복잡한 설계를 정확하게 복제할 수 있도록 설계되었습니다. 그 에 더하여, 기계 는 양성음 (positive) 과 음성음 (negative tone) 재료 를 포함 하여 여러 형태 의 저항재 를 처리 할 수 있으므로, 개발 (development) 과 생산 (production) 에서 모두 사용 하기 쉽다. 또한, 이 툴은 특정 고객 애플리케이션 요구 사항에 맞게 모듈을 혼합/일치시킬 수 있습니다. 혼합 및 일치 모듈에는 열 온도 스캔, 설계 규칙 검사기, 평면 처리 모듈이 포함됩니다. 이 자산은 빠르고 정확한 포토레시스트 (photoresist) 처리 기능과 더불어 생산성 향상을 위한 혁신적인 사용자 인터페이스 (user interface) 를 갖추고 있습니다. 사용이 간편한 GUI (Graphical User Interface) 를 통해 운영자는 잔액을 수동으로 조정하지 않고도 레시피를 신속하게 사용자 정의하고 프로세스 매개변수를 빠르게 조정할 수 있습니다. 마지막으로, TEL Polaris 2000에는 장비가 생산 전/중에 제대로 작동하도록 자체 테스트 모델이 내장되어 있습니다. 이 시스템에는 자체 진단 모듈, 유지 보수 사이클 모듈, 지속적인 품질 보증 모듈이 포함됩니다. 이러한 종합 장치 (Comprehensive Unit) 는 사용자가 포토레시스트 (Photoresist) 제작 프로세스를 최대한 활용함으로써 일관성 있고 높은 품질의 수율을 보장합니다.