판매용 중고 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury #9221786

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury는 감산 에칭 프로세스를위한 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 일련의 광학 컴포넌트 (optical component) 를 사용하여 기판 표면에 균일하고 정확한 마스크 패턴을 생성합니다. 광감각 필름 은 감광 필름 인데, 이 필름 은 기질 에 적용 되어 강렬 한 광원 에 노출 될 수 있습니다. 광원은 사용 된 photoresist 재료의 유형에 따라 UV 또는 가시 광원 일 수 있습니다. 이어서, 노출 된 포토 esist 물질은 화학 개발자 또는 핫 플레이트 개발자와 함께 개발된다. 그런 다음, 개발 된 저항 패턴이 에칭 중에 기본 기판으로 전달됩니다. FSI Mercury는 실리콘, 쿼츠 및 금속과 같은 다양한 물질에서 정확한 3 차원 패턴을 생성 할 수 있습니다. 이 장치는 마스크없는 스테퍼를 사용하여 마스크를 기판 위에 정확하게 배치합니다. 이 포지셔닝의 정확성을 통해 매우 미세한 해상도 패턴을 만들 수 있습니다. 또한, 스테퍼의 정확성은 생성 된 저항 패턴이 일관되고 반복 될 수 있도록 보장한다. 기계는 또한 ameroid, projection 및 diode 레이저를 포함한 많은 이미징 광학을 사용하여 기질의 정확한 광학 영상을 보장합니다. 이렇게 하면 생성되는 웨이퍼 서피스 패턴의 해상도가 매우 높습니다. 또한, 통합 글로벌 조명 매핑 (integrated global lumination mapping) 은 모든 웨이퍼 표면이 균등하고 일관되게 노출되도록 합니다. TEL 머큐리 (TEL Mercury) 는 또한 온도, 압력 및 화학 솔루션을 포함한 다양한 공정 제어를 통해 다수의 저항 개발 및 에칭 프로세스를 허용합니다. 이러한 프로세스 제어 범위를 통해 사용자는 금속, 쿼츠, 폴리실리콘, IC 등의 재료에 대한 에칭 프로세스를 쉽게 구성할 수 있습니다. 또한, Mercury는 에칭 프로세스를 단순화하도록 설계된 다양한 소프트웨어 도구를 갖추고 있습니다. 이러한 도구는 이미징 (imaging) 및 에칭 (etching) 매개변수에 대한 디지털 모니터링 및 제어를 제공하며, 이는 최적의 패턴이 생성되도록 도와줍니다. 또한, 이 도구에는 자동 저항 개발 (Automatic Resist Development) 과 같은 기능과 특정 사용자 요구 사항에 대한 개발 레시피를 저장하고 저장할 수 있는 기능이 포함되어 있습니다. 전반적으로, TOKYO ELECTRON Mercury는 다양한 에칭 공정에 대한 정밀 저항 패턴을 생산하도록 설계된 포토 esist 자산입니다. 여기에는 다양한 이미징 옵틱 (optic) 과 프로세스 제어 (process control) 가 포함되어 있어 최적의 결과를 위해 모델을 구성할 수 있습니다. 또한, 에칭 (etching) 프로세스를 간소화하고, 저항 패턴이 일관되고 반복 가능하도록 다양한 소프트웨어 툴이 제공됩니다.