판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Hart AP #9177828

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Hart AP 원자로는 photoresist ashing 및 reactive ion etching application을 위해 특별히 설계된 반도체 에칭 장비입니다. 이 화학적 비활성 시스템은 에치 선택성 요구 사항에 높은 처리량과 정밀도를 제공합니다. 이 제품은 일체형 (All-in-One) 장치로, 자본 및 운영 비용을 절감하고 정확성과 정확성을 높이도록 설계되었습니다. AMAT Centura Hart AP 원자로의 에칭 챔버는 알루미늄 보호 스테인리스 스틸 (stainless steel) 로 구성되어 최대 강도와 장기 내구성을 제공합니다. 이 기계의 고급 디자인은 밀봉 된 챔버, 2 엔드 전극 및 조절 가능한 전극 간격을 특징으로합니다. 이러한 기능을 함께 사용하면 조정 가능한 가스 흐름 및 챔버 압력 제어 (chamber pressure control) 를 통해 균일 한 에칭 프로세스가 가능합니다. APPLIED MATERIALS Centura Hart AP 원자로는 매우 얇은 재료 층을 정확하게 가져올 수있는 힘을 가지고 있습니다. 0.01 미크론의 반복 가능성과 -79 ° C ~ 38 ° C의 온도 범위로 수동 또는 자동 모드로 작동합니다. 또한 내장 저항성 센서는 에칭 프로세스를 정확하게 제어합니다. 또한 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 를 통해 사용자는 프로세스를 실시간으로 모니터링할 수 있습니다. 정교한 소프트웨어를 사용하면 오프사이트 인터페이스에서 챔버 압력, 가스 흐름, 전극 간격을 제어, 조정할 수 있습니다. 또한, 이 소프트웨어에는 고급 안전 제어 (Safety Control) 및 내장 에칭 레시피가 포함되어 있어 프로세스 매개변수를 쉽게 전환하거나 조정할 수 있습니다. 센츄라 하트 AP (Centura Hart AP) 원자로는 가장 까다로운 포토 esist 및 반응성 이온 에칭 응용 프로그램을 충족하도록 설계된 강력한 에칭 도구입니다. 이 자산은 굳은 강철 (강철) 로 구성되고 뛰어난 정밀도를 제공하므로 매우 얇은 층을 만들 수 있습니다. 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 와 고급 안전 제어 (safety control) 를 통해 쉽게 작동할 수 있으며, 포함된 소프트웨어는 다양한 에칭 레시피를 제공합니다. 이 모델은 최고의 정확성과 처리량을 제공하며, 자본 및 운영 비용을 절감합니다.