판매용 중고 VARIAN / VEECO GEN II #9222084

VARIAN/VEECO GEN II Molecular Beam Epitaxy 장비는 양자 점과 같은 복잡한 나노 구조를 제작 할 수 있도록 설계된 고급 도구입니다. 이 증착 시스템은 저에너지 전자 빔 (electron beam) 을 사용하여 표적 기판에 안정적인 원자 층을 만듭니다. 빔 에너지 (beam energy) 는 빔의 정확한 제어 및 반복성을 보장하기 위해 자기 차폐 (magnetically shielded) 된 내장 이온 소스에 의해 미리 선택됩니다. 생성 된 빔은 eV의 일부에서 여러 eV (eV) 까지 다양하며, 이 유닛은 다양한 재료를 증착하는 데 좋습니다. VEECO GEN II의 고유 한 소스 머신은 펄스 플럭스 (pulsed) 및 상수 빔 플럭스 (constant beam flux), 기판 가열 또는 냉각률 (cooldown rate) 또는 동적 증착율 (dynamic deposition rate) 및 압력 변화 등의 특수 동적 증착 효과를 허용합니다. 또한, 챔버 내 질량 분석기 (in-chamber mass spectrometer) 와 실시간 분광 피드백 (real-time spectroscopic feedback) 의 조합은 대상 레이어의 재료 구성을 정확하게 제어 할 수 있습니다. VARIAN GEN II는 또한 3 축 컴퓨터 제어 동작 어셈블리를 특징으로하며, 이 모션 어셈블리는 증착 소스에 상대적인 샘플을 배치 할 수있는 서브 미크론 정확도를 제공합니다. 예제 이동과 증착률을 제어함으로써, 사용자는 나노 스케일 (nanoscale) 에 날카로운 면도기 (razor) 같은 기능으로 구조를 생성 할 수 있습니다. 이 도구의 정교한 컴퓨터 인터페이스 및 소프트웨어 자동화는 복잡한 운영 체제에 대한 액세스를 제공합니다. 증착율, 플럭스 (flux), 전류 (current) 및 기판 온도를 자동으로 제어하면 나노 미터 미만의 두께에 도달 할 수있는 균일 한 레이어의 증착이 가능합니다. 또한, GEN II에는 가스 안전 차단 밸브, 압력 모니터, 진공 경보 등 다양한 안전 기능이 포함되어 있습니다. 이 에셋에는 진공 연동 모델 (vacuum interlock model) 과 실시간 프로세스 데이터가 표시되는 LCD 패널이 장착되어 있습니다. 결론적으로, VARIAN/VEECO GEN II Molecular Beam Epitaxy는 복잡한 나노 구조 생산에 사용되는 다양한 매개변수를 정확하게 제어 할 수있는 고급 증착 장비입니다. 이 시스템은 초소형 (sub-microscopic) 의 정확도로 매우 정확한 레이어를 생성하는 기능을 제공하는 다양한 고유 한 기능을 제공합니다.