판매용 중고 VEECO Gen II #9194612

VARIAN/VEECO GEN II 분자 빔 에피 택시 (MBE) 장비는 고품질 반도체 재료의 연구 및 개발에 사용되는 획기적인 기술입니다. 이 제품은 최적의 성능과 안정성을 보장하기 위해 탁월한 수준의 제어, 정밀도, 정확성을 제공합니다 (영문). 이 시스템에는 재료 도핑, 증착 및 구조 증가를위한 VEECO GEN II MBE 프로세서가 포함됩니다. 이 프로세서는 초고진공 (ultra-high vacuum) 환경을 달성하고 다양한 기판 및 소스 구성을 작동하도록 설계되었습니다. 이 장치에는 AE VEECO Long Body Source (옵션) 도 포함되어 있으며, 이는 분자 빔의 높은 전력과 뛰어난 균질성을 제공하여 정확하고 정확한 MBE 결과를 제공합니다. 다음과 같은 메인 유닛 구성 요소가 포함됩니다. 1. 진공 챔버 (Vacuum Chambers) - 주요 챔버는 매우 높은 진공 환경에서 작동하도록 설계되어, 균일성과 원자화가 뛰어난 재료 층의 증착 및 성장을 가능하게합니다. 2. 기판 소스 (Substrate Sources) - 필요한 재료 및 표준 (시스탈린/비정질 등) 에 따라 여러 소스를 사용할 수 있습니다. 정확성 향상을 위해, 선택적 참조 및 대상 소스를 최적화된 성장 수준에 사용할 수 있습니다. 3. 소스 구성 - 소스 구성에는 이온 소스, 전자 빔 소스, 반응성 소스 및 MBE 프로세스를 수용하는 임베디드 소스가 포함됩니다. 4. 프로세스 제어 (Process Control) - 가변 속도 프로세스 제어를 통해 기판 증착 또는 성장률을 정확하게 조정할 수 있습니다. Autotune 모듈 (옵션) 을 통해 프로세스 제어를 개선하고 생산성을 높이고 비용을 절감할 수 있습니다. 5. 샘플 정렬 (Sample Alignment) - 샘플 정렬 기계는 최적의 균일성과 정확도를 위해 웨이퍼와 해당 레이어의 정확하고 반복 가능한 위치를 제공합니다. 6. 진공 모니터링 (Vacuum Monitoring) - 이 도구는 내부 습도 및 증착 셀, 분석기 및 게이지를 사용하여 압력, 온도 및 잔류 가스 수준을 모니터링합니다. VARIAN GEN II MBE 자산은 빠른 설정과 작동을 위해 사용자에게 친숙한 디자인과 직관적인 제어를 제공합니다. 이 모델은 특정 요구 사항에 따라 다양한 구성으로 제공됩니다. 이 장비는 최신 MBE 기술을 활용하여 최적의 정밀도 (Precision) 와 정확도 (Accuracy) 를 제공하여 뛰어난 품질과 안정성을 제공합니다.