판매용 중고 VEECO Gen II #9173265

ID: 9173265
MBE Growth system Chamber with (8) source flange size 4.5” Sources: Al, Ga, In, Be, Si, GaTe, As, Sb (2) Ion pumps: Main chamber (600 l/m) Preparation chamber (400 l/m) with (2) power supplies CTI8 Cryo pump for main chamber 6” Turbo pump with dry pump for load lock (2) Ti-Sublimation pumps With power supplies in base of main chamber Sample manipulator with servo motors for rotation, 2" or 3" Position setting Control unit Beam flux monitor Controller Sample manipulator heater with power supply Temperature controller and display (3) Ion gauges: With (3) power supplies and controllers Main chamber Preparation chamber Load lock Load lock for 4-10 wafers With heater for pre-bake out at 150°C, power supply included Temperature controller Preparation chamber With heater for bake out at 400°C, power supply included Temperature controller Electrical distribution panel Bake out panels with electrical connections (8) Shutters with their control units Utility distribution box for water, air, N2 QMS and RHEED with power supplies Operating system and computer (Latest version of Moly, or AMBER, or EPIMAX) 4-6 Sample holders Silver coated copper gaskets Pyrometer RHEED Camera and analysis software Turn key project Effusion cell: Flange, 4.5" Dual or single heater up to 1350 C 85-155 CC PBN crucible Power supply Temperature controller.
VARIAN/VEECO GEN II는 III-V 폴리 타입, 산화물, 질화물, 그래 핀 및 희토류 요소를 포함한 광범위한 물질의 성장에 사용할 수있는 MBE (Molecular Beam Epitaxy) 장비입니다. 이 시스템은 2 개의 챔버 MBE 장치 (chamber MBE unit) 와 공구 설비 및 계측에 대한 완전한 보완 등 2 개의 주요 구성 요소로 구성됩니다. 2 개의 챔버 MBE 머신은 증발 챔버와 성장 챔버로 구성됩니다. 증발 챔버에는 6 개의 Knudsen 셀 소스가 있으며, 재료 유형의 변화를 허용합니다. 성장 챔버 (growth chamber) 는 에피 택시 성장을 극대화하기 위해 설계된 매우 맞춤형 목욕 튜브 기반 챔버입니다. 이 도구에는 온도 조절, 기판 가열, 6 축 in situ 모니터링 등 재료 품질을 최적화하는 목적을 가진 다수의 하위 시스템이 장착되어 있습니다. Control Asset 은 자동 확장 프로세스와 원격 제어 기능을 제공합니다. 또한, 이 모델에는 소스 형상의 사용자 정의, 슬릿 블레이드 및 그리드 (slit blade and grid), 샘플 처리량 및 챔버 압력 제어, 재료 품질 및 정확도 향상을 위한 사전 정렬 및 사후 정렬 기능 등 다양한 선택적 매개변수가 장착되어 있습니다. 마지막으로, 장비에는 디가싱 클러스터 (Degassing Cluster), 원격 전자 건 (Remote Electron Gun), 레이저 시스템 (Laser System) 및 컨트롤러 조합 (Controller Combination) 을 포함하여 여러 가지 지원 시스템이 장착되어 있으며, 사용자가 전위를 플롯하여 재료 품질 및 성장 속도를 더욱 최적화 할 수 있습니다. 무엇보다도, VEECO GEN II는 광범위한 재료를 성장시킬 수있는 강력한 장치입니다. 수많은 보조 시스템 (보조 시스템) 과 매개변수 (매개변수) 와 자동 제어 (automated control) 를 통해 재료 성장의 정확한 조작을 통해 다양한 응용 프로그램에서 사용할 수있는 일관된 고품질 재료를 생산할 수 있습니다.
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