판매용 중고 KLA / TENCOR EFEM #9276609

KLA/TENCOR EFEM은 전체 필드, 결함 감지 기능을 갖춘 마스크 및 웨이퍼 검사 장비입니다. 독보적인 옵티컬 디자인, 견고한 하드웨어 설계, 고급 이미지 프로세싱 (Advanced Image Processing) 기능이 통합된 이 시스템은 품질 보증 검사에서 탁월한 정확성과 반복성을 제공합니다. 이 장치는 특허를받은 KLA (Multi-Scan Enhanced Laser Beam) 이미징 및 고급 광학 이미징 기술을 사용하여 자세한 표면 정보와 서브 미크론 결함을 보여줍니다. 고정밀 (high-precision) 광학 하드웨어는 결함과 결함이 감지되고 세밀한 특징이 있습니다. 내장형 연마식 광 필터링 (light-filtering) 기술을 통해 주변 조명으로 인해 발생하는 이미지 가공물을 제거하여 모든 마스크 및 웨이퍼를 최적의 이미징할 수 있습니다. 이 기계는 또한 고해상도 카메라 헤드, 고정밀 확대/축소 광학, 최고급 자동 초점 도구, 탁월한 성능 및 분석을 제공하는 강력한 이미지 처리 알고리즘을 갖추고 있습니다. 또한 자산의 특허를받은 소형 KLA EFEM 기술은 패턴 인식 및 마스크 생성, 빠른 현장 감지 및 수정, 결함 감지 및 분류, 웨이퍼 투 다이 비교, 특수 에지 인식 등 포괄적으로 통합 된 검사 플랫폼을 제공합니다. 동시에, 이 모델은 자체 학습 친화력 데이터 일치 (self-learning affinity data matching) 및 패턴 분석 알고리즘을 사용하여 모서리 전환 또는 정렬 및 하프톤 검사에서 불일치를 캡처합니다. 따라서 실제 마스크 성능이 정확하고 실시간으로 평가됩니다. TENCOR EFEM 장비는 또한 다양한 맞춤형 품질 관리 (Quality Control) 지표 및 수동 검토 도구를 통합할 수 있도록 자동화된 검사 및 분석 소프트웨어 제품군을 갖추고 있습니다. 또한 이 시스템은 다양한 추적 능력 (Traceability) 및 추적 기능을 제공하여 운영자가 운영 데이터를 신속하고 정확하게 점검하고 결과를 검사하여 기존 표준을 적절히 준수할 수 있도록 합니다. 전반적으로, EFEM 장치는 마스크와 웨이퍼의 품질 보증에서 뛰어난 정확성과 반복 성을 제공합니다. 이 강력하고 다양한 기능을 갖춘 솔루션을 통해 제조업체는 제품의 품질을 보장하고 시간 (time) 과 비용 (money) 을 절감할 수 있습니다.