판매용 중고 FEI DualBeam 820 #9215632

FEI DualBeam 820은 재료 표면의 고성능 준비를 위해 설계된 고급 이온 밀링 장비입니다. 이 시스템은 부서지기 쉬운, 세라믹, 금속 합금, 유리 등 다양한 재료 표면의 정확한 이온 밀링 (ion milling) 을 할 수 있습니다. DualBeam 820은 Ga 이미징 및 광범위한 갈륨 이온 빔 증착 (gallium ion beam deposition) 을 사용하여 나노 미터 규모의 밀링 기능을 제공합니다. 이것은 섬세한 표면을 처리 할 때 가깝고 정확한 완화를 가능하게합니다. 이 단위는 고정 기판 홀더를 사용하여 밀링 중 재료 서피스를 안정적으로 처리합니다. "홀더 '는 정밀 한 기능 을 유지 하기 위하여" 이온' 광선 과 명백 한 단계 를 더 쉽게 탐색 하기 위해 회전 할 수 있다. 이 고급 홀더 설계는 섬세한 샘플을 처리 할 때에도 고정밀 밀링 결과를 보장합니다. 이 기계 는 또한 진공실 로 동봉 되어 "파편 '팽창 및 작동 중 의 환경 오염 의 영향 을 최소화 한다. FEI DualBeam 820은 평면 및 프로파일 밀링 작업에 모두 사용될 수있는 몇 안되는 고급 이온 밀링 시스템 중 하나입니다. 평면 밀링의 경우, 정확한 3 축 동력 스테이지는 균일 한 ablation 및 정확한 속도 조정을 허용합니다. 프로파일링된 밀링 기능을 통해 이온 빔 (ion beam) 의 제어 제어가 복잡한 피쳐와 깊이를 형성 할 수 있습니다. 또한, 다양한 유형의 밀링 요구를 수용하기 위해 독립적 인 빔 처짐 도구를 사용할 수 있습니다. DualBeam 820에는 Ga 이미징 및 광범위한 갈륨 이온 빔 증착을위한 2 개의 독립적으로 작동하는 이온 빔 소스가 있습니다. 따라서 서로 다른 밀링 작업에 대한 정확한 제어 및 최적화가 가능합니다. 가영상 (Ga Imaging) 자산은 섬세한 표면과 특징의 지형을 포착하여 손상 또는 오염을 감지 할 수 있습니다. 갈륨 이온 빔 (gallium ion beam) 은 고정밀 절제 프로세스를 통해 재료 표면에 복잡한 피쳐를 생성 할 수 있습니다. FEI DualBeam 820은 금속, 유리, 세라믹 및 컴포지트를 포함한 다양한 재료와 함께 사용할 수 있습니다. 또한 포괄적인 프로세스 검증 및 모니터링을 위한 포괄적인 밀링 프로세스 제어 (milling process control) 및 모니터링 기능을 제공합니다. 또한, FEI (Advanced Software Suite) 는 밀링 활동을 쉽게 모니터링하여 보다 사용자 정의 밀링 경험을 제공합니다. 전반적으로 DualBeam 820은 재료 표면의 정확한 밀링을 위해 설계된 고급 이온 밀링 모델입니다. 이 장비는 진공실로 둘러싸여 있으며 문구 기판 홀더, 정밀한 3 축 스테이지, 독립적으로 작동하는 빔이있는 빔 디플렉션 시스템, 종합적인 밀링 및 모니터링을위한 종합 소프트웨어 스위트 (software suite) 가 포함됩니다. 이 장치는 높은 정확도와 속도로 복잡한 기능을 만드는 데 효율적입니다.