판매용 중고 NISSIN Exceed 2300 #9206424

NISSIN Exceed 2300 Ion Implanter & Monitor는 다양한 산업 및 과학 응용 분야의 재료에 대한 이온 임플란테이션을 수행하도록 설계된 정밀 도구입니다. 이 과정에서, 각각 전하를 운반하는 이온 빔이 대상 물질로 향한다. "이온 '은 매우 높은" 에너지' 로 가속 되어 표적 의 표면 을 관통 한다. 이 과정 은 원자 구조 를 수정 하는 데 사용 되며, 따라서 이식 된 물질 의 성질 과/또는 성분 을 변화 시킨다. 2300 을 넘으면 "이온 '광선 의 가속도" 에너지' 와 "빔 '의 표적 입사각 을 정확 하고 정확 하게 제어 할 수 있다. 즉, 원하는 임플란트 깊이를 정확하게 달성하는 데 사용할 수 있습니다. 이 기기는 빔 전류 (beam current) 와 펄스 너비 (pulse width) 를 제어하여 사용자가 원하는 재료 특성 변경에 맞게 이식 프로세스를 조정할 수 있도록 합니다. NISSIN Exceed 2300은 뛰어난 저전압 성능을 제공하여 빔 전류가 높고 펄스 폭이 짧습니다. 또한, 이 장치 는 "빔 '의" 스팟' 크기 를 제어 하는 기능 을 가지고 있어서 이식 되는 물질 의 양 을 정확 히 제어 할 수 있다. 2300을 초과하면 정교한 제어 시스템이 있습니다. 이 장치는 이온 빔 특성을 이식 프로세스 전, 중, 후에 측정하고 모니터링 할 수 있습니다. 이를 통해 운영자는보다 정확한 제어를 위해 이식 프로세스에 대한 더 나은 통찰력을 얻을 수 있습니다. 이 장치에는 빔 전류 (beam current), 응용 전압 (applied voltage), 대상 전하 (target charge) 및 기타 매개변수에 대한 데이터를 제공하는 모니터 디스플레이도 있습니다. 악기도 다재다능합니다. 반도체, 소형 분자 화합물, 초박형 실리콘 산화물 필름, LED 및 MEMS/NEMS와 같은 광범위한 착상 응용 분야에 사용될 수 있습니다. NISSIN Exceed 2300은 신뢰성과 정확성에 대한 정확한 표준을 위해 제조되었습니다. 작동하기 쉽고 유지 보수가 거의 필요하지 않습니다. 또한 진공 호스 브레이크 감지 시스템 (vacuum hose break detection system) 및 아크 감지 실드 (arc-detect shield) 와 같은 여러 안전 기능도 포함됩니다. 요약하자면, Exceed 2300 은 다재다능하고 신뢰할 수 있는 이온 임플란터 (ion implanter) 및 모니터로, 다양한 산업용/과학용 어플리케이션에서 정밀 성능을 제공하도록 설계되었습니다. 정교한 제어 기술을 통해 이식 프로세스를 정확하게 조정할 수 있으며, 모니터 디스플레이 (Monitor Display) 는 상세한 데이터 판독 및 안전 (Safety) 기능을 제공합니다. 이 장치는 사용하기 쉽고 유지 보수가 거의 필요하지 않으므로 이온 이식 (ion implantation) 에 종사하는 기업에게 이상적인 도구입니다.