판매용 중고 AXCELIS / FUSION Rapid 320 FC #9202024

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ID: 9202024
Wafer curing system Currently warehoused.
AXCELIS/FUSION Rapid 320 FC는 사진 분석 프로세스에서 탁월한 성능을 제공하도록 설계된 고성능 컴팩트 (Compact) 노출 장비입니다. 웨이퍼에서 더 선명한 패턴을 달성하기 위해 최대 32도 필드 커버리지 (FC) 와 2.5õm 이상의 해상도를 제공 할 수 있습니다. 이 시스템은 마이크로비아 생산 및 직경이 최대 200mm 인 웨이퍼에서 다른 일상적인 포토 스텐실 (photostencil) 응용 프로그램에 적합합니다. FUSION Rapid 320 FC는 강력한 수은 램프 광원을 사용하여 파장 365nm의 UV (Ultra-violet) 방사선을 방출합니다. 이는 포토 esist 화학에 이상적인 에너지 범위입니다. 또한 CAC (Advanced Chromatic Aberration Correction) 기술이 장착되어 있으며, 초점 위치 정밀도와 낮은 수차를 유지하면서 전체 분야에서 더 높은 수치 조리개 (NA) 를 사용할 수 있습니다. AXCELIS Rapid 320 FC 의 Automated Process Control Module 은 빠르고 통제된 노출 프로세스를 통해 장기적인 반복성을 제공합니다. 또한, 노출 장치 내부의 일관된 노출 용량을 유지하면서 실시간으로 조정 가능한 정확한 파장 안정화 (pavength stabilization) 를 제공합니다. 이 장치에는 노출 과정에서 웨이퍼의 초점 위치를 측정하는 통합 코트 (Coats) 도량형 기계가 장착되어 있습니다. 이 외에도 Rapid 320 FC는 생산 효율성을 향상시키도록 설계되었습니다. 컴팩트 한 디자인으로 클린 룸 레이아웃을 쉽게 통합 할 수 있습니다. 또한 이 툴을 손쉽게 유지 관리할 수 있도록 설계되었습니다. 따라서 현장 지원 (Onsite Support) 응답 속도를 높이고 다운타임 (Down Time) 을 단축할 수 있습니다. 또한 AXCELIS/FUSION Rapid 320 FC는 매우 정확한 셔터 응답 시간과 펄스 폭을 통해 뛰어난 노출 정확성과 반복성을 제공합니다. 최대 200mm 크기의 코팅 된 웨이퍼를 지원할 수 있기 때문에 웨이퍼 처리 기능 (wafer handling capability) 도 주목할 만하다. 또한, 이 자산은 고해상도와 뛰어난 반복 능력 덕분에 저항의 소비를 줄일 수 있도록 설계되었습니다. 전반적으로 FUSION Rapid 320 FC는 고성능, 정밀, 유연성 및 향상된 효율성을 제공하는 탁월한 노출 모델입니다. 전자제품 제조업 (Electronics Manufacturing Industry) 의 다양한 사진 분석 응용 분야에 이상적입니다.
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