판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON IW-6 #9079167

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TEL / TOKYO ELECTRON IW-6
판매
ID: 9079167
웨이퍼 크기: 6"
CVD Furnace, 6".
TEL/TOKYO ELECTRON IW-6은 확산 공정을 도핑하기 위해 반도체 산업에 사용되는 확산 로입니다. 집적 회로 칩에서 반도체 층의 균일 한 도핑을 용이하게하도록 설계되었습니다. 설계를 통해 사용자는 도핑 프로세스 매개변수를 정확하게 제어하여 효율성 및 수율을 극대화할 수 있습니다. TEL IW-6은 다중 구역 대기 압력 화학 증기 주입 시스템을 갖춘 CVD (Chemical Vapor Deposition) 퍼니스입니다. 여러 개의 용광로 모듈이 설치된 수평 용광로 시스템입니다. 각 퍼니스 모듈에는 자체 히터, 쿼츠 튜브 및 퍼지 가스 라인이 있습니다. 이렇게 하면, 용광로 가 정밀 한 온도 조절 을 하고, 큰 기판 위 에 균등 한 대기 를 조성 할 수 있다. TOKYO ELECTRON IW-6에는 반복 가능하고 정확한 작동을 보장하기 위해 다양한 액세서리가 포함되어 있습니다. 여기에는 열전대, 온도 컨트롤러, 중앙 저항 검출기, 가스 매니 폴드, 산소 및 수소 분석기가 포함됩니다. 이들 액세서리 외에도, IW-6은 또한 물질을 기판에 스퍼터 (sputter) 하고 표면 수정을 만드는 데 사용할 수있는 마그네트론을 포함한다. TEL/TOKYO ELECTRON IW-6에는 직관적인 사용자 인터페이스가 제공되어 쉽고 직관적인 작동이 가능합니다. 용광로는 특정 레시피 (레시피) 와 매개변수 (파라미터) 로 설정할 수 있으며, 실시간으로 모니터링, 제어할 수 있습니다. 사용자는 런타임 중에 매개변수 (parameter) 나 레시피 (recipe) 를 조정할 수도 있으며, 나중에 사용하기 위해 데이터를 기록할 수도 있습니다. TEL IW-6은 많은 반도체 생산 공정에서 사용되는 안정적이고 효율적인 확산 로입니다. 특히 통제 된 도펀트 (dopant) 확산 프로세스에 적합하여 제어 및 정밀도를 높입니다. 고급 기능 및 액세서리를 갖춘 TOKYO ELECTRON IW-6 (TOKYO ELECTRON IW-6) 은 반도체 업계의 대부분의 확산 응용 분야에 적합한 선택입니다.
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