판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8SE #62753

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8SE는 뛰어난 제작 성능을 제공하도록 설계된 고급 확산 로와 액세서리 패키지입니다. 이 장비는 용광로 본체, 진공 제어를위한 벨로우 펌프 (bellows pump), 기판 처리를위한 로드 락 챔버 (load lock chamber) 및 기타 다양한 자동화 기능으로 구성됩니다. TEL ALPHA-8SE는 반도체, MEMS 및 광전자 장치 제조와 같은 고급 열 처리 응용 프로그램을 위해 설계되었습니다. TOKYO ELECTRON ALPHA-8 SE 퍼니스는 고온 균일성과 뛰어난 온도 정확도를 특징으로하며, 정밀한 처리 시간 및 온도 프로파일에 대한 뛰어난 제어를 가능하게합니다. 온도 조절 장치 (separation temperature control mechanism) 와 램프 업 온도 조절 장치 (ramp-up temperature control unit) 를 결합한 온도 조절 시스템을 사용하여 온도 조절을 달성할 수 있습니다. 이것은 모든 온도 범위에서 높은 정밀도를 보장합니다. TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-8SE의 용광로 본체는 임베디드 멀티 존 (Multi-Zone) 난방기로 구성되어 있으며, 다양한 영역에서 기판을 균일 한 냉각 및 난방 장치로 나눌 수 있습니다. 그 결과, 기판의 크기와 모양이 높은 온도 차이로 인해 변하는 경우에도 온도 조절 (temperate control) 이 더욱 균일해집니다. 내부 용광로는 고온 내성 스테인리스 스틸 (stainless steel) 및 티타늄 합금 부품으로 만들어져 고온 환경에서 내구성을 보장합니다. 안전하고 균일 한 프로세스 환경을 보장하기 위해 TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8 SE에는 열 전도성 모니터 (thermal conductivity monitor) 및 활성 오염 물질 제어 (active pollutant control) 와 같은 다양한 독점 자동 기능이 장착되어 있습니다. 열 전도도 모니터 (thermal conductivity monitor) 는 필요한 경우 용광로 챔버의 내부 및 외벽 온도를 조절하여 균일 한 기판 온도를 보장합니다. 활성 오염 물질 제어 도구 (Active pollutant control tool) 는 처리 챔버에서 깨끗함과 낮은 수준의 공정 생성 미립자를 유지하여 안전하고 안정적인 프로세스 조건을 보장합니다. 이러한 자동 기능 외에도 TEL ALPHA 8 SE는 다양한 유용한 액세서리 옵션을 제공합니다. 이러한 항목에는 도구 처리 장치 및 웨이퍼 전송 시스템 (wafer transfer system) 이 포함되며, 둘 다 기판 처리를 능률화합니다. TOKYO ELECTRON Alpha 8SE에는 프로세스 입자를 수집 및 분석하기위한 입자 분석/필터레이션 자산이 포함되어 있으며, 연산자가 정확한 프로세스 제어를 유지할 수 있습니다. 전반적으로, ALPHA-8 SE는 뛰어난 제조 성능과 효율적인 프로세스 자동화 기능을 제공하는 고도의 확산 로와 액세서리 패키지입니다. 이 모델은 전통적인 반도체 제작과 프로그레시브 막 (progressive membrane) 및 광전자 장치 제작 공정 모두에 적합합니다.