판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 805DN #143861

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 805DN은 산업 시장을 위해 설계된 확산 로와 액세서리입니다. 고온 기판에서 구성 요소를 가열, 처리 및 증발하도록 설계되었습니다. 특수한 특징은 알파 펠리스터 (alpha pellistor) 로 온도를 조정하는 능력이며, 이를 통해 증발 압력 (evaporation pressure) 과 같은 프로세스 매개변수가 사용됩니다. TEL Alpha 805DN은 직경 200mm 및 직경 300mm 증발 챔버가 장착 된 멀티 캐비티 와전류 퍼니스입니다. 핫 존에는 2 개의 독립 흑연 히터가 장착되어 있으며, 최대 온도 기능은 1750 ° C이며, 가변 주파수 드라이브로 구동됩니다. 안전 기능으로서, 용광로의 온도는 CVDO-TCP 온도 조절 시스템으로 모니터링됩니다. 이중 챔버 TOKYO ELECTRON Alpha 805DN은 복수 이온 소스 및 레이어 제어 (Layer-control) 와 같은 광범위한 프로세스 제어를 용량 속도, 램프 온 타임 (ramp-on-time) 및 열 온 타임 (heat-on-time) 과 같은 풍부한 프로세스 매개 변수를 제공합니다. 또한 프로그래밍 가능한 증가율, 프로세스 시간, 증발 시간 등을 자동으로 제어할 수 있습니다. 알파 805DN (Alpha 805DN) 에는 진공을 깨지 않고 소스 교환을 수행하는 이중 안테 챔버 (antechamber), 지정된 가스를 공급하는 가스 인젝터 장치 (gas injector unit) 및 용광로 챔버 성능을 모니터링하는 이동식 쿼츠 창 (movable quartz window) 과 같은 다른 고급 기능도 있습니다. 또한, 피로미터 (pyrometer) 와 같은 다양한 센서가 표준 장비로 부착되며, 단일 및 이중 쿼츠 튜브, 리모콘, 진공 게이지 장치 등 많은 옵션 액세서리가 고객의 응용 프로그램에 따라 추가 될 수 있습니다. TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 805DN은 강력하고 신뢰할 수있는 확산 로입니다. 유연성과 다양한 프로세스 매개변수 (process parameter) 를 통해 사용자가 최적의 조건으로 최고 품질의 정밀 구성 요소를 생성할 수 있습니다. TEL Alpha 805DN은 또한 뛰어난 안전성을 제공하여 산업 응용 분야에 이상적인 도구입니다.