판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #9099381
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판매
ID: 9099381
Vertical diffusion furnace, 12"
Process: TEOS
(1) Heater element Model: Mid-Temp VMM-56-002 5zone/500-1000
Process Condition: LP
Maximum Operating Temperature: 1000°C
N2 Load Lock: Yes
Wafer Type: 300 SEMI STD-Notch
Qty. of Production Wafers: 117 slots Ladder
Boat Operation: (2) Boat Type / (2) Boat Operation
Software Version: 2.06
Furnace:
(1) Loading Area Light: White (LED)
Force Air Cooling system: None
Side Maintenance: None
(1) O2 Density control: NGK SH-304 STANDARD
(1) N2 Boat shower wafer cooling: installed
(1) Furnace Temperature Controller: M560A
Wafer/Carrier Handling:
Carrier Type: FOUP (25) slots (STD)
Carrier Stage Capacity: 16
(1) WTU Type: 1+4 Edge Grip
WTU alignment: None
WTU Teaching method: None
Gas Distribution:
IGS Maker / Type: AREA
IGS MFC Maker / Type: AREA (Gas Panel)
IGS Press Transducer Maker / Type: NAGANO
Exhaust:
Vacuum Gage - 2 torr: None
(1) Vacuum Gage - 10 torr: MYKROLIS CMLH-31-150S06
Vacuum Gage - 100 torr- None
(2) Vacuum Gage - 1000 torr: MYKROLIS CMLH-11-150S06
(1) Main Valve: MKS-99C1274
(1) Pump Maker/Model: EDWARDS IH-1800
Low vacuum valve: None
(1) Trap: Disk Trap
(1) Vacuum Pressure Controller: N2-ballast
Reactor:
(2) Process Tube (LP): Outer: ID448xH1360, Inner: Straight H1340
(2) Outer/Inner Tube Material (LP): Quartz
Inner Tube Type (AP): None
(1) Inner T/C: Outer Tube interior wall type
(2) Boat Material/Type: Quartz 117 slots Ladder (8mm pitch)
(1) Boat Rotation: installed
(1) Pedestal Materiel/Type: Quartz Sand blast OD300 H350 1fins
(1) Auto Shutter: installed
Power Distribution:
Voltage, 3 Phase: 208VAC
Voltage, Single Phase: 120VAC
Frequency: 60Hz
User Interface:
(2) Operation Panel: Front/rear Gas Box and Operation Panel Installed
(2) Indicator Type: Superset
Operation software type: Linux
(4) Gas Leak Detector Material/Type: Riken TEOS/CLF3
Dry pumps: not included.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i는 고급 반도체 프로세스를위한 최고의 확산 로와 액세서리입니다. TEL ALPHA-303I는 다용도, 고속, 고품질 확산 로로, 신뢰할 수 있는 성능, 조절 가능한 온도 조절 및 최대 프로세스 반복성을 위한 광범위한 기능을 제공합니다. TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I은 쿼츠 사이드 월 및 핫 존 용량이 455L 인 단일 챔버 로입니다. 이 확산 로에는 낮은 열 질량 복사 가열 장비가 있으며, 이는 빠른 온도 변화를 가능하게 합니다. TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I에는 프로세스 챔버 내에서 온도 균일성을 최적으로 제어하기 위해 3 구역 베이킹 시스템이 장착되어 있습니다. 알파 303i (Alpha 303i) 에는 웨이퍼 보트를 프로세스 챔버로 자동으로 옮길 수있는 수직 리프트 샘플 로딩 장치가 포함되어 있습니다. 냉각 공정을 최적화하기 위해 웨이퍼 보트를 자동으로 2 개의 온도로 높일 수 있습니다. 또한, 공정 챔버 (process chamber) 의 온도는 공정의 요구에 따라 미리 설정 될 수 있습니다. TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I 기계에는 폐쇄 루프 냉각 도구를 포함한 다양한 액세서리가 장착되어 있습니다. 이 자산 은 "센서 '를 이용 하여 공정" 가스' 의 온도 를 측정 하고 조절 함 으로써 공정 "가스 '에서 원하는 온도 를 유지 하는 데 도움 이 된다. TOKYO ELECTRON Alpha 303i에는 빠르고 신뢰할 수있는 레시피 및 고급 매개 변수 설정을위한 통합 자동 레시피 생성기 (Auto Recipe Generator) 와 같은 다양한 프로세스 제어 측정이 있습니다. 또한 온도, 흐름 속도, 압력, 총 가스 흐름 등 다양한 프로세스 매개변수에 대한 프로세스 모니터링을 수행할 수 있습니다. 알파 303 I (ALPHA 303 I) 는 실행 사이의 짧은 복구 시간으로 매우 빠르고 정확한 열 주기를 가능하게 합니다. 고정밀 온도 조절을 통해 TOKYO ELECTRON ALPHA-303I 모델은 뛰어난 반복성과 재생성을 제공합니다. TEL 알파 303i (TEL Alpha 303i) 는 또한 공정 챔버에서 모든 공정 가스 또는 공기를 빠르게 대피 할 수있는 수냉식 진공 펌프를 포함하여 다양한 안전 기능을 갖추고 있습니다. 이는 작동 중 최대 안전을 보장합니다. 또한 TEL ALPHA-303 I 장비는 백업 가스 공급 시스템 (Bus Gas Supply System) 을 갖추고 있어 프로세스 챔버가 항상 적절한 프로세스 가스를 적절히 공급하도록 보장합니다. ALPHA-303 I (ALPHA-303 I) 는 안정적이고 다양한 확산 용광로 및 액세서리로, 고급 반도체 프로세스에 뛰어난 성능과 반복 기능을 제공합니다. 최첨단 온도 조절 (temperature control) 방식과 결합된 다양한 안전 (safety) 기능을 통해 다양한 프로세스 요구를 충족하는 강력하고 안전한 솔루션이 될 수 있습니다.
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