판매용 중고 KOKUSAI Vertron III #135994

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ID: 135994
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1999
Vertical diffusion furnace / LPCVD / Poly CVD furnace, 8" Process applications: Dry-Ox, Wet-Ox, NO(N2O)-Anneal, Well Diffusion, N2(Ar, H2)-Anneal, PH3-Anneal, Doped/Undoped-Poly-Si, Doped/Undoped-SiGe-Poly, Si3N4, TEOS, HTO Accommodates: 5 wafers simultaneously Automatic filler dummy wafer supply by wafer detection mechanism SEMI standard compliant I/O stage Supports SMIF interface GUI tube controller (CX3000 series) SECS / GEM compatibility 1999 vintage.
KOKUSAI Vertron III는 반도체 재료의 성장 및 열 처리에 사용되는 확산 로와 관련 액세서리입니다. Vertron III는 KOKUSAI Electric에서 제조했으며 R&D 및 생산 응용 프로그램의 성능 및 신뢰성으로 유명합니다. KOKUSAI Vertron III는 300 ° C ~ 1100 ° C의 온도를 확산 할 수있는 단일 웨이퍼 퍼로입니다. 장비의 핵심은 최대 8 인치 직경의 기질에 장착 할 수있는 자동 흑연 서셉터 (graphite susceptor) 를 갖춘 석영 셰일입니다. 긴 수명의 할로겐 램프는 프로세스 균일성을 모니터링하기 위해 통합 카메라를 비추는 데 사용되며, 다양한 크기의 기판에 맞게 조정할 수 있습니다. & # 160; 흑연 및 SiC 난방 코일은 챔버 내에서 필요한 난방 및 냉각 속도를 제공하는 데 사용됩니다. Vertron III 에는 강력한 작동 및 디스플레이 기능이 포함된 직관적인 컨트롤러 인터페이스가 있습니다. 조정 가능한 가스 흐름 제어 (Adjustable Gas Flow Control) 및 수동 펌프 제어 (Manual Pump Control) 등의 기능이 시스템에 포함되어 있어 프로세스를 정확한 사양에 맞게 사용자 정의할 수 있습니다. 또한, 최대 100 단계의 프로세스 보고서를 쉽게 생성할 수 있으며, 각 프로세스 실행에 대한 포괄적인 개요를 제공합니다. 포함된 소프트웨어는 프로세스 재생성을 보장하기 위해 여러 매개변수 (예: 온도, 용광로 압력) 를 모니터링하고 제어하도록 설계되었습니다. 사용자는 프로세스를 자동화하고 나중에 사용할 수 있도록 저장하는 다양한 프로세스 레시피 (process recipe) 를 구성할 수도 있습니다. 또한 온도가 높은 보호 (over temper protection), 강제 가스 차단 (forced gas shoff) 및 챔버 내부의 압력이 지정된 수준을 초과하면 자동으로 차단되는 진공 펌프 (vacuum pump) 와 같은 안전 기능도 포함됩니다. KOKUSAI 버트론 III (Vertron III) 은 품질과 장기적인 성능을 보장하기 위해 부품의 산화를 줄이는 고압 송풍기와 과열 예방을 돕는 수냉식 장치 (water-cooling unit) 를 갖추고 있습니다. 용광로 및 액세서리는 유지 보수 문제를 파악하고 유지 보수가 필요할 때 사용자에게 경고하도록 설계된 AI 제어 자동 진단 시스템 (AI-controlled auto-diagnostic machine) 에서 지원됩니다. 처리 단계 수 증가, 공구 정확도 향상, 유지 관리 시간 단축 등의 추가 업그레이드가 제공됩니다. 전반적으로 KOKUSAI Electric의 Vertron III는 반도체 생산 및 R&D 응용 프로그램에서 안정성과 성능이 필요할 때 훌륭한 선택입니다. 다양한 프로세싱 온도, 설정, 직관적인 사용자 인터페이스, 포괄적인 프로세스 및 안전 기능을 갖춘 KOKUSAI 버트론 III (Vertron III) 은 어떠한 확산 로의 요구에도 이상적인 솔루션입니다.
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