판매용 중고 SVG 86 #9214253

GCA Corp의 SVG 86은 반도체 장치의 제작에 포토 esist를 사용하는 장비입니다. Photoresist는 빛에 반응하는 재료입니다. 이 "시스템 '에서 는, 기판 에 회로 를 만들기 위해, 그것 을 수정 하기 위하여 집중 된 전자" 빔' 과 함께 사용 된다. 86 유닛은 3 단계 프로세스입니다. 제 1 단계는 전자 빔 (electron beam) 기술을 사용하여 마스크를 통해 기판을 빛에 노출시키는 것을 포함한다. 이 노출 동안, 포토 esist의 재료가 수정되고 패턴이 생성된다. 이 패턴은 제작되는 디바이스에 따라 복잡하고 크기가 다양할 수 있습니다. 두 번째 단계 에서, 기질 은 "에찬트 '역할 을 하는 산 용액 에 노출 된다. 이 에찬트 방법을 습식 에칭이라고합니다. 이 단계에서는 광원에 노출된 재료를 제거하고 기판에 원하는 피쳐 (feature) 를 생성합니다. 마지막으로, 기질은 개발자 잔기 (developer residue) 또는 원치 않는 부산물과 같은 추가 마스킹 재료를 정리하는 리프트 오프 (lift-off) 프로세스에 노출됩니다. 이 마지막 단계는 기판에 최종 설계를 만듭니다. 전반적으로, SVG 86은 고해상도 이미지와 회로 패턴을 생성하도록 설계된 리소그래피 (lithography) 기능을 제공하는 포토리스 (photoresist) 기계입니다. 또한 높은 수준의 자동화 (automation) 로 인해 반복 가능하고 정확한 디자인의 수율 증가를 약속합니다. 또한, 이 도구는 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 와 운영 자산 (operation asset) 을 사용하여 쉽게 사용할 수 있도록 설계되었습니다. 이를 통해 모델은 다양한 반도체 장치 제작에 이상적입니다.