판매용 중고 ASML AT-850 #9193537

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ASML AT-850
판매
제조사
ASML
모델
AT-850
ID: 9193537
빈티지: 2004
ARF Scanner, 12" 2004 vintage.
ASML AT-850은 반도체 장치 제작 프로세스의 모든 단계에서 사용되는 고정밀 웨이퍼 스테퍼입니다. 이 제품은 정확한 패턴화 (patterning) 및 제품 테스트 (on-product testing) 를 지원하는 포괄적인 플랫폼을 제공하도록 설계되었습니다. ASML AT 850 장비는 리소그래피, 레티클 포지셔닝, 기판 정렬, 난방 및 냉각, 스테이지 모션 등 고급 기술의 조합을 사용하여 반도체 기판에 매우 복잡한 구조를 만듭니다. 스테퍼의 실리콘 기반 석판화 시스템 (lithography system) 은 인상적인 5nm 해상도를 통해 복잡한 회로 패턴을 복제 할 수 있습니다. 이 장치는 단일 정렬 마크 (alignment mark) 로 4 개의 레티클에 걸쳐 패턴을 정확하게 노출하고 이미징 할 수 있으므로 대용량 생산에 적합합니다. 스테퍼의 스테이지 모션 머신 (stepper's stage motion machine) 은 위치 해상도가 2.5nm인 고급 모터를 특징으로하여 장치가 노출 전에 레티클 아래에 기판을 정확하게 배치 할 수 있습니다. 노출 과정에서 기질 온도가 균일하고 안정적인지 확인하기 위해 전자 열 액츄에이터 (electro-thermal actuator) 가 사용됩니다. 이 열 안정화 (thermal stabilization) 는 웨이퍼 스테퍼의 성능에서 온도 유발 변이로 인한 오류를 최소화하는 데 도움이됩니다. 반사 레티클 위치 지정 도구 (Reflective reticle positioning tool) 는 레티클의 정확한 방향을 유지하므로 조명 이미지를 기판에 정확하게 투영 할 수 있습니다. 스테퍼에는 패턴 정렬 에셋 (pattern alignment asset) 이 장착되어 스테이지 위치가 항상 레티클과 정확하게 정렬되도록 합니다. 마지막으로, 히터 및 냉각 시스템은 웨이퍼 스테퍼의 필수 구성 요소입니다. 고정도 가열 (high-precision heating) 모델은 제조 과정에서 기질의 온도를 제어하는 데 사용되며, 냉각 장비 (cooling equipment) 는 노출 과정 후 기판을 허용 가능한 온도로 빠르게 가져옵니다. 전반적으로 AT-850은 뛰어난 정밀도 및 대용량 생산 기능을 제공하는 고급 웨이퍼 스테퍼입니다. 정밀한 레티클 포지셔닝 (reticle positioning), 기판 정렬 (기판 정렬), 열 관리 (thermal management) 및 스테이지 모션 (stage motion) 을 조합하면 반도체 재료에 매우 복잡한 구조를 만들 수 있습니다.
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