판매용 중고 VARIAN 3290 #9154647
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ID: 9154647
웨이퍼 크기: 6"
Sputtering system, 6"
Entity target configuration:
Process station #1: HARD ETCH
Process station #2: ALSI
Process station #3: ALSI
Process station #4: ALSI
Process station cathode configuration:
Station #1: Etch
Station #2: Con-Mag 2
Station #3: Con-Mag 2
Station #4: Con-Mag 2
Heater configuration:
Heater type (All Station): DC BIAS
Heater controller(AII Station): (3) Eurotherm 808, (1) Eurotherm 3508
Power supply configuration:
RF Gen. station #1: RF-10S (1KW max)
Inner PSU station #2: 2.5 KW
Outer PSU station #2: AE PINNACLE 12 KW
Inner PSU station #3: 2.5 KW
Outer PSU station #3: AE PINNACLE 12 KW
Inner PSU station #4: 2.5 KW
Outer PSU station #4: AE PINNACLE 12 KW
System vacuum configuration:
Compressor: Model 8150
8R Cryo pump: Yes
Water pump: No
Software configuration:
User's guide: ECS 3000
Version: 96.204.10U1
Floppy drive: 3.5"
Double cassette loading: Yes.
VARIAN 3290은 과학 및 실험실 장비의 주요 공급 업체 인 VARIAN에서 제조 한 정밀 고출력 DC 스퍼터링 장비입니다. 이 시스템은 디스크, 웨이퍼, 튜브 등의 기판에 얇은 재료 레이어를 생성하도록 설계되었습니다. 이 "필름 '은 반도체 장치 에서 장식 제품 에 이르기 까지 다양 한" 응용 프로그램' 을 위한 정확 한 증착 을 가능 케 한다. 이 장치에는 스테인리스 스틸, 알루미늄, 기타 금속, 세라믹 및 산화물 필름 등 다양한 재료를 스퍼터링하기위한 다양한 액세서리가 포함되어 있습니다. 3290은 직류 (DC) 스퍼터링 기술, 나노 스케일 증착 기술을 갖추고 있습니다. 이 기술은 진공 챔버 (vacuum chamber) 내부의 통제 된 저압 환경을 사용하여 전자로 스퍼터링 대상 (sputtering target) 의 폭격으로 기판에 박막 (thin film) 이 생성됩니다. 이러 한 폭격 은 표적 물질 로부터 박막 원자 들 을 방출 시킨 다음, "기판 '으로 퇴적 시킨다. 이 "테크놀로지 '는 매우 정확 하여 여러 가지 물질 의 균일 한 층 을 기판 에 증착 시킬 수 있다. VARIAN 3290의 최대 출력은 5.4kW이고 3 개의 독립 음극입니다. 이를 통해 복수 레이어 스택 구조 (복잡한 다중 계층 애플리케이션) 를 신속하게 배치할 수 있습니다. 스퍼터링 프로세스를 조정하기 위해 장력 범위를 0v ~ 5kV로 조정할 수 있습니다. 이 기계는 또한 활성 냉각 시스템 (Active Cooling System) 을 갖추고 있어 고출력 (High-Power Output) 에도 전원 공급을 조정할 수 있으므로 확장 사용 중에도 과열 (overheating) 을 방지합니다. 또한, 공구에는 항상 챔버 압력을 모니터링하고 조정하는 자동 압력 감지 에셋이 있습니다. 3290 (3290) 은 다른 시스템에는 없는 다양한 기능을 제공하는 고급 (advanced) 모델로, 박막 (thin film) 과 균일 한 레이어 구조의 정확한 증착을 허용합니다. 바리안 3290 (VARIAN 3290) 은 견고한 구조 및 내구성이 뛰어난 구성 요소와 결합하여 다양한 박막 증착 프로젝트를 위한 탁월한 솔루션을 제공합니다.
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