판매용 중고 RENA EPM 311F #9162517

RENA EPM 311F는 최첨단 태양 광 생산 장비입니다. 이 제품은 독일에서 설계 및 제조되었으며, 고품질 태양전지와 모듈을 빠르고, 효율적으로 생산할 수 있습니다. 고성능 프로세싱과 고품질 (High-Quality) 컴포넌트로 인해 다양한 운영 방법에 적합합니다. EPM 311F는 고속 다이렉트 레이저 스크라이빙 (direct laser scribing) 기술을 사용하여 최소 셀 면적이 2.5cm x 2.5cm 인 태양 전지와 모듈을 만듭니다. 첨단 레이저 절단 (advanced laser cutting) 프로세스는 세포 고장으로 이어질 수있는 최소한의 스트레스 손상 (stress damage) 으로 정밀 절단을 생성하여 전통적인 수동 프로세스보다 우수한 품질을 제공하도록 설계되었습니다. 직관적인 GUI (Graphical User Interface) 를 갖춘 산업용 PC가 장착되어 있어 자동화된 프로덕션 프로세스를 설정하고, 진행 상황을 모니터링하고, 필요에 따라 매개변수를 조정할 수 있습니다. RENA EPM 311F 는 또한 고급 막 청소 장비 (advanced membrane cleaning equipment) 를 사용하여 모듈 표면을 효과적으로 청소하고 보호할 수 있습니다. 이 시스템은 기계적 (mechanical) 및 화학적 (chemical) 클리닝 조합을 사용하여 모듈이 오염이 없으며 높은 수준의 균일성을 보장합니다. 또한, EPM 311F에는 비상 정지 버튼, 비정상적인 작동의 경우 도어 연동 시스템, 레이저 및 픽앤플레이스 (pick and place) 장치의 보호 커버, 레이저 보호 고글 등 여러 안전 기능이 장착되어 있습니다. RENA EPM 311F는 높은 정확도를 달성 할 수 있으며, 평균 허용 범위가 ± 3 jm, 최소 모듈 면적이 2.5 cm x 2.5 cm (천장 크기: 최대 2 m2) 입니다. 처리 속도와 효율성이 인상적이어서 대량 생산 (mass production) 을 위한 완벽한 장비 (equipment) 가 되지만, 매우 정확한 프로세스가 가능합니다. EPM 311F는 1 축 또는 2 축 머신으로 설치할 수 있으며, 1 축 도구는 최대 42cm/min의 속도에 도달 할 수 있고 2 축 에셋은 최대 64cm/min의 속도에 도달 할 수 있습니다. 고급 레이저 프로세스 외에도 RENA EPM 311F는 고효율 픽 앤 플레이스 (pick and place) 모델도 통합했습니다. 이 장비는 정확한 동작 제어 (motion control) 알고리즘을 사용하여 컴포넌트를 정확히 선택하고 셀에 배치합니다. 또한 잠재적 오류나 손상된 셀을 감지할 수 있는 내장 센서 (내장 센서) 가 장착되어 있으며, 필요에 따라 프로세스를 중지하고 다시 시도하도록 구성할 수 있습니다. 결론적으로, EPM 311F 는 최고의 성능과 안전을 위해 설계된, 매우 효율적이고 정확한 태양 광 생산 기계입니다. 모든 크기의 생산에 적합한 다양한 기능을 제공하며, 혁신적인 레이저 프로세싱 (laser processing) 과 픽앤 플레이스 (pick and place) 시스템은 매우 정확하고 일관된 결과를 보장하도록 설계되었습니다. RENA EPM 311F (RENA EPM 311F) 는 고품질 태양 광 모듈을 빠르고 효율적으로 생산하려는 기업 또는 개인에게 적합한 장비입니다.