판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9051354

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000은 고정밀, 고성능 단일 웨이퍼 열 처리 원자로입니다. 반도체, MEMS 및 기타 고급 재료 산업의 배치 프로세스를 위해 설계되었습니다. 통합 구성 요소를 생산하는 AMAT P-5000 의 정확도, 처리량, 정밀도는 crystal wafer 및 semiconductor 물질을 생산하는 데 강력하고 비용 효율적인 도구입니다. 원자로는 두 가지 주요 구성 요소 인 공정 챔버 (process chamber) 와 압력 챔버 (pressure chamber) 로 구성됩니다. 공정 챔버 (process chamber) 에는 균일 한 가열 및 냉각을위한 회전 서셉터 (rotating susceptor) 와 정밀한 가스 조절을위한 가스 인젝터 (gas injector) 가 있습니다. 압력 실에는 압력 조절기와 300 밀리바 가스 전달 장비가 있습니다. "가스 '전달" 시스템' 은 저압 안정성 을 유지 하면서 가공 "가스 '와 온도 를 극히 정밀 하게 조절 하도록 설계 되었다. APPLIED MATERIALS P 5000 원자로에는 특허를받은 플라임 아웃 장치도 장착되어 있습니다. 이 기계는 프로세스 매개변수를 측정하고 고급 피드백 제어 및 진단을 제공합니다. 이 툴은 프로세스 불안정성을 방지하고 최적의 프로세스 성능을 보장합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 원자로는 갈륨 비소, 석영, 질화 갈륨, 탄화 실리콘 및 III-V 화합물을 포함한 다양한 물질을 처리 할 수 있습니다. 프로세스는 1mbar ~ 900mbar 범위의 고온, 빠른 냉각 및 프로세스 압력을 달성하도록 설계되었습니다. 또한 AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000은 플라즈마 강화 된 화학 증기 증착, 원자층 증착 및 나노 스케일 패턴 화 기술을 특징으로합니다. 안전성과 신뢰성 측면에서 P 5000 원자로는 표준을 설정합니다. 압력 모니터, 진공 잠금 밸브, 수소 흐름 밸브, 고압 배기 누출 탐지기 (고압) 등 완전한 안전 자산으로 설계되었습니다. 원자로는 또한 프로세스 안정성을 보장하기 위해 이중 트랙 단일 단계 프로세스 컨트롤러 (dual-track single-step process controller) 및 온도 제어 안전 차단 모델을 갖추고 있습니다. 궁극적으로 APPLIED MATERIALS P5000 원자로는 크리스탈 웨이퍼 (Crystal Wafer) 및 반도체 재료를 생산하기위한 고급적이고 안정적이며 비용 효율적인 도구입니다. 정확도, 처리량, 정밀도가 결합하여 설계 엔지니어 (Design Engineer) 와 제조 전문가 모두에게 매우 귀중한 툴이 됩니다.