판매용 중고 AIXTRON Crius 31x2" #9186422

AIXTRON Crius 31x2는 최대 31x2 (62) 2 인치 웨이퍼의 성장을 위해 설계된 에피 택시 증착 장비이며, 금속 유기 화학 증발 (MOCVD) 또는 원자층 증착 (ALD) 에 사용될 수 있습니다. 이 시스템에는 2 개의 독립 제어 원자로가 장착되어 있으므로 2 개의 서로 다른 물질이 동시에 성장할 수 있습니다. AIXTRON Crius 31x2의 챔버 볼륨은 1.1m3이며, 온도 범위는 5-450 ° C, 최대 압력은 1mbar입니다. 또한 웨이퍼-웨이퍼 (wafer-to-wafer) 및 원자로 내 전송 (intra-reactor transfer) 을 모두 갖춘 고급 웨이퍼 처리 장치가 포함되어 있으며 배치 전송 중 처리 및 오염 요구 사항을 모두 수용합니다. 웨이퍼 핸들링 머신 (wafer handling machine) 은 다양한 웨이퍼 크기와 호환되며, 작은 웨이퍼 조각은 100 ½ m까지 떨어집니다. AIXTRON Crius 31x2 도구는 압력, 온도, 시간, 반응성 가스 및 증기 공급을 모두 독립적으로 제어하여 프로세스 유연성을 위해 설계되었습니다. 압력은 0.1 mbar 정확도로 유지되며 압력 범위는 0.1 ~ 100 mbar이며 가스 흐름은 0.001 sccm 정확도로 제어됩니다. AIXTRON Crius 31x2에는 샘플 취급을위한 고급 로봇 암도 장착되어 있습니다. 암은 원자로 사이에 웨이퍼를 이동할 수 있으며, 기판 팔꿈치에서 웨이퍼 로딩 및 언로드, 카세트 (cassettes) 또는 보트 로더에서 로딩 및 언로드에도 사용할 수 있습니다. 로봇 암은 기판을 입구 매니 폴드 (inlet manifold) 또는 척 (chuck) 전송 지점으로 옮길 수 있으며, 원자로 내에서 여러 웨이퍼 전송 유연성을 제공 할 수도 있습니다. 각 원자로에 배기 밸브 (Exhaust Valv) 가 제공되어 다양한 배기 자산 요구사항을 활용할 수 있습니다. AIXTRON Crius 31x2 (AIXTRON Crius 31x2) 는 매우 다재다능한 모델로, 다양한 애플리케이션 프로파일에 최고 품질의 에피 택시 레이어를 제공할 수 있습니다. 첨단 "로봇 '암 과" 웨이퍼' 취급 장비 와 결합 된, 원자로 에 대한 압력, 온도, 시간, 반응 "가스 '및 증기 공급 에 대한 독립적 인 제어 를 이 부양 증착 장치 가 고급 장치 생산 에 이상적 인 선택 이 되게 한다.