판매용 중고 AG ASSOCIATES Heatpulse 8108 #9196230

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ID: 9196230
웨이퍼 크기: 5"-8"
빈티지: 1995
Rapid thermal processor annealing system, 5"-8" Electronics Mass flow controlled gas handling Cooling ULPA Filtration Mechanical assemblies Silicon dielectric growth Implant annealing Glass re-flow Silicide formation and annealing Nitridation of metals Contact alloying Oxygen donor annihilation Wafer handling: Automatic serial processing Standard cassettes Throughput: Process dependent Ramp-up rate: Programmable 1 – 180°C Per second Steady-state duration: 1 – 600 Seconds per step Ramp-down rate: Programmable 1 – 180°C Per second Ramp down rate is temperature Radiation dependent Maximum 150°C per second Steady-state temperature range: 400 – 1200°C ERP Temperature accuracy: +3°C to -7°C Calibrated against an instrumented thermocouple wafer (ITC) Temperature repeatability: + 3°C Temperature uniformity: + 5°C 1995 vintage.
AG ASSOCIATES Heatpulse 8108은 고급, 빠른 열 프로세서로 높은 수준의 성능을 제공합니다. 도자기, 금속, 폴리머, 복합 소재 등 다양한 물질의 빠른 열 처리를 가속화하도록 설계되었습니다. 빠른 프로토 타입, 연구 개발, 제조 생산에 이상적인 다양한 기능을 갖추고 있습니다. AG ASSOCIATES HEAT PULSE 8108은 단일 챔버, 프로그래밍 가능한 장비로, 필요한 온도에서 최적화된 결과를 제공합니다. 이러한 팬을 개별적으로 조정하여 정밀한 온도 조절을 가능하게 하는 반면, 냉각은 표준 온도 조절 (temperature-controlled) 일괄 처리로 (batch furnace) 보다 최고 3 배 빠른 속도로 조정할 수 있습니다. 이 용광로의 최대 온도는 1200 ° C이며 난로 크기는 300mm입니다. 과열 또는 과압 시 용광로를 차단하는 자동 수냉식 유압 시스템이 내장되어 있습니다 (영문). HEATPULSE 8108 의 인텔리전스 (Intelligence) 는 종합적인 메뉴 구조와 직관적인 디스플레이를 갖춘 사용자 친화적인 터치 스크린 인터페이스를 통해 관리됩니다. 이 인터페이스를 통해 프로세스를 프로그래밍하고 모니터링하기 쉽습니다. 프로세서는 또한 컴퓨터 연결 (computer connection) 을 통해 여러 사용자가 자신의 워크스테이션 또는 네트워크 컴퓨터에서 장치에 액세스할 수 있습니다. 또한 Quick-HeatingTM 등의 소프트웨어 툴을 지원하여 빠른 주기 시간 및 다중 레시피 스토리지를 사용할 수 있습니다. AG ASSOCIATES HEATPULSE 8108의 다른 기능으로는 가스 분배기, 열 프로파일을 최적화하는 내장 온도 램핑 프로그램, 열 충격으로부터 연약한 물질을 보호하는 데 도움이되는 세라믹 라이닝 (ceramic lining) 이 장착 된 스테인리스 스틸 쉘 (stainless steel shell) 이 있습니다. 또한, 자동 경보 도구와 신뢰성 있는 작동을 위한 내결함성 (fault tolerant) 설계도 갖추고 있습니다. 이러한 기능을 함께 사용하면 HEAT PULSE 8108을 안정적이고 유연한 고속 열 프로세서로 만들 수 있습니다.
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