판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #118737

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ID: 118737
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 2010
Track system, 8" Left to right orientation 4 cassette stage, 2 spin Main controller: NEC FC-9801BX computer C/S robot type: Ceramic pincette Main robot type: 2 Finger wafer transfer main robot Indexer: 4 cassette carrier station 25 wafer slots cassette Spin: Stream nozzle thinner dispense Stream nozzle top rinse dispense Spin servo motor Digital vacuum sensors and interlocked for spin unit 2010 vintage As-is, where-is.
TEL/TOKYO ELECTRON Mark 7 Photoresist Equipment는 반도체 산업의 고급 응용 분야를위한 포괄적 인 포토 esist 코팅 및 개발 솔루션입니다. 시스템은 4 개의 별개의 구성 요소로 구성되며, 각 구성 요소는 함께 작동하여 최상위 프로세스 제어, 정확도 및 정밀도를 제공합니다. TEL MARK7 Photoresist Coating Module은 장치의 첫 번째 구성 요소입니다. 2 개의 독립적 인 코팅 헤드와 강력한 펌핑 머신 덕분에 얇은 저항 필름의 정확하고, 반복 가능하고, 균일 한 코팅을 가능하게합니다. 정확한 힘 공급 분산 롤러는 향상된 코팅 성능을 보장하며, 높은 분자량으로 코팅을 허용합니다. TEL PMS-003 Intelligent Dispensing Unit은 마킹 7 코팅 모듈의 성능을 더욱 최적화합니다. 도구의 두 번째 구성 요소는 TOKYO ELECTRON Pattern Generating Module입니다. 이 모듈은 최첨단 직접 쓰기 빔 스티어링 (direct-write beam-steering) 메커니즘을 사용하여 다양한 패턴 모양과 크기를 생성할 수 있습니다. 또한, 이 모듈은 하나의 저항 (Resist) 자산에서 다른 (Resist) 자산으로 데이터를 전송할 수 있도록 하는 편의성이 추가되어 여러 프로젝트에 걸쳐 복잡한 패턴을 손쉽게 재생성할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON MARK-7 모델의 세 번째 및 네 번째 구성 요소는 자동화된 저항 개발을 제공하기 위해 결합됩니다. TOKYO ELECTRON MARK7 Resist Development/Inspection Unit은 통합 시각적 검사 모듈에 의해 구성 및 스캔 될 때 저항 패턴의 실시간 이미지를 제공합니다. 검사 모듈을 사용하여 레지스트 (resist) 패턴 결함을 자동으로 감지하여 즉시 수정 작업을 수행할 수 있습니다. 또한 Resist Development/Inspection Unit에는 초음파 기반 청소 장비가 장착되어 저항 패턴 완성의 정확성과 명확성을 높입니다. 전반적으로 TEL/TOKYO ELECTRON MARK7 Photoresist System은 탁월한 프로세스 제어, 정확성 및 정확성을 위한 강력한 도구입니다. 4 가지 구성 요소는 함께 작동하여 탁월한 포토레스 코팅 및 개발 솔루션을 제공하여 고급 반도체 응용 프로그램을 지원합니다.
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