판매용 중고 DNS / DAINIPPON SK-2000 #118481
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판매
ID: 118481
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 2003
Spin coater / Developer DUV track system, 8"
Wafer flow direction: L-type
Wafer type: Notch
IF-B
Spinner unit configuration:
(2) Coaters
B-ARC (2) Coaters
(3) Developers
Indexer:
Left type
Wafers: SEMI Standard wafers / Notch type
Standard type
(4) Uni cassettes
Coater:
SC1 (Unit 3) & SC2 (Unit 4):
Includes:
Cups
EBR Function
Resist lines: 8 Line
Resist pump: PDS-105G-KPV4
Cup rinse function
Back side rinse
Cup rinse
Pot rinse
EBR (Edge bead removal)
Prewet function
SC3 (Unit 5) & SC4 (Unit 6):
Cups: 1
Includes:
EBR Function
Resist pump: PDS-105G-KPV4
Resist lines: 4 Line
Cup rinse function
Back side rinse
Cup rinse
Pot rinse
EBR (Edge bead removal)
Prewet function
Bake:
HP: (6) Units (8, 9, 11, 12, 17, 18)
RHP: (8) Units (25, 26, 28, 29, 31, 32, 35, 36)
CP: (7) Units (7, 10, 16, 24, 27, 30, 34)
AHL: (3) Units (13, 14, 15)
EEW: Unit (33)
Developer:
SC1 (Unit 3) & SC2 (Unit 4):
Cups
Developer number nozzle
DIW Rinse nozzle
Back side rinse line
Flow meters with sensor: DEV, DIW1, DIW2, Back-side rinse, ORG, FWD
Includes:
Dev1
Prewet
DIW1
Back side rinse
TR Includes:
TR1 Arm
TR2 Arm
TR3 Arm
Others:
Thermo controller model: CET-CU, Mass 7kg
THC Model: SPC-2313-UC-A
CP Controller model: FRD-A200-UC
HMDS Supply type: Quart bottle to buffer tank
Thinner supply type: Canister tank
Developer supply type: Facility supply
EEW:
Unit (33)
Lamp house type with lamp house
Miscellaneous:
Signal tower lamp: 3 Color (Red, orange, green)
Sub module configuration:
Source bottle cabinet
SC Cabinet
ETU Cabinet
Controller cabinet
IFB ACU Cabinet
Input power supply box
Main gas valve close
Gas (Air, N2) line purge
Chemical (Developer, DIW) line purge
Drain PCW end capping
Gas line (N2) end capping
Chemical (Developer, DIW) line end capping
Spin unit (Coater & developer) exhaust line caping
Bake unit exhaust line caping
Leak check
Main power: 3 Phase, 200 V, full load 20.44 kVA, 59A
50/60 Hz, 3 Wires and GND/PE
Rating 400A, AIC 65kA, motor 8A
2003 vintage.
DNS/DAINIPPON SK-2000은 미세 패턴 처리를 위해 개발 된 고성능 포토레지스트 장비입니다. 이 시스템은 완벽한 등록 (Registration) 및 노출 제어 (Exposure Control) 를 제공하며 광범위한 포토 저항재 (Photo Resist Material) 를 사용할 수 있도록 설계된 고유한 정밀 카메라 이미징 장치를 사용합니다. 최적의 노출 및 유연성을 위해 Contact 및 Projection 툴을 모두 사용할 수 있습니다. 고급 접촉 노출 도구 (Advanced Contact Exposure Tool) 는 매우 고품질의 이미지 등록을 만들어 Photomask 전체 표면에 완벽하게 균일하게 노출됩니다. 프로젝션 노출 도구 (Projection Exposure Tool) 는 높은 정확도의 광학 머신을 적용하여 미세 장치의 왜곡을 줄이기 위해 고안되었으며, 이는 궁극적으로 노출 정확도, 선형성 및 수율을 증가시킵니다. 이 도구는 또한 서브 미크론 해상도, 0.15 미크론 최소 노출 균일성 및 노출 안정성 제어 기능과 같은 고급 기능을 제공합니다. 서브 미크론 (sub-micron) 해상도는 뛰어난 정확도와 디테일로 매우 작은 석판화 기능을 달성 할 수 있도록 보장합니다. 노출 안정성 제어 (Exposure Stability Control) 기능을 사용하면 노출 수준뿐만 아니라 지속 시간까지 정확하게 조정할 수 있습니다. 이는 일관된 결과에 매우 중요합니다. 이 자산은 초고온 노출, 처리량 증가, 프로세스 시간 단축을위한 고속 모드를 자랑합니다. 이 모델의 또 다른 기능은 단일 소스 (single source) 에서 노출 파장을 전환하는 기능으로, 다양한 노출 유형에 여러 민감도를 사용할 수 있습니다. DNS SK2000 포토리스 스틱 (photoresist) 장비에 관하여이 디자인은 온도 변화에 대한 강력한 견고성을 제공하며 입자를 크게 줄여 전반적인 노출 신뢰성을 높입니다. 전체적으로이 시스템은 초미세 패턴이 필요한 석판화 응용 프로그램에 대한 최적의 솔루션을 제공합니다.
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