판매용 중고 LEICA / VISTEC MIS 200 #131981

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ID: 131981
Wafer inspection system.
LEICA/VISTEC MIS 200은 혁신적인 마스크 및 웨이퍼 (wafer) 검사 장비로, 고밀도 성능을 보장하는 효율적인 방법을 제공합니다. 이 자동 시스템 (Automated System) 은 검사된 각 제품의 품질을 최적화하여 정확하고 안정적인 결과를 제공하도록 설계되었습니다. 이 장치에는 두 가지 주요 요소 (이미징 하위 시스템 및 패턴 인식 하위 시스템) 가 장착되어 있습니다. 이미징 서브시스템에는 자동 웨이퍼 스캐닝 (Automated Wafer Scanning), 고급 패턴 인식 (Advanced Pattern Recognition) 및 고해상도 이미지 스캐닝 머신 (High-Resolution Image Scanning Machine) 이 장착되어 있어 웨이퍼의 결함이 가장 적습니다. 패턴 인식 하위 시스템에는 강력한 소프트웨어 패키지 (wafer 또는 mask 의 상태를 식별하고 평가하는 데 사용됨) 가 포함되어 있습니다. 이를 통해 도구는 제품의 성능에 영향을 줄 수 있는 결함을 식별할 수 있습니다. 내장형 이미징 에셋은 컬러 카메라 (Color Camera), 필터 (Filter) 및 이미징 렌즈 (Imaging Lens) 로 마스크 및 웨이퍼 이미지를 모두 극도로 정밀하게 캡처할 수 있습니다. 렌즈는 인라인 (in-line) 및 오프라인 (off-line) 스캔을 모두 수행하여 최대 정확도를 위해 웨이퍼 또는 마스크의 전체 필드 이미지를 제공합니다. 사용자에게 친숙한 터치 스크린을 통해 모델을 직관적으로 제어할 수도 있습니다. 또한, LEICA MIS 200에는 복잡한 패턴과 간단한 패턴을 식별하고 구별 할 수있는 패턴 인식 (pattern recognition) 기능이 장착되어 있으며, 영역 범위를 파악할 수 있습니다. 장비는 웨이퍼 및 마스크 크기를 정확하게 측정하고, 결함 측정을 수행하고, 임계 치수 및 지형 측정을 분석할 수 있습니다. 이 시스템의 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 를 통해 사용자는 신속하게 테스트를 설정하고 실행할 수 있으며, 스마트 데이터 분석 (smart data analysis) 을 통해 쉽고 빠른 데이터 분석을 수행할 수 있습니다. 이를 통해 사용자는 잠재적인 문제를 신속하게 파악하고 해결 조치를 취할 수 있습니다. VISTEC MIS 200 (VISTEC MIS 200) 은 최고의 품질과 정확도가 필수적인 제조 환경에서 사용하기에 이상적입니다. 즉, 사용자가 결함에 대한 제품을 빠르고 정확하게 분석할 수 있습니다. 빠른 성능과 높은 정확도를 제공하는이 마스크 (mask) 와 웨이퍼 (wafer) 검사 장치는 모든 현대 공장에서 필수적인 도구입니다.
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