판매용 중고 CANON MPA 3000W #9195378

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CANON MPA 3000W
판매
ID: 9195378
빈티지: 1999
Mask aligner 1999 vintage.
CANON MPA 3000W Mask Aligner는 정밀도가 높은 완전 자동 웨이퍼 레벨 패터닝 반도체 구성 장비입니다. 1 미크론 (1 미크론) 의 작은 크기의 이미징을 사용할 수 있어 복잡한 마이크로프로세서 (microprocessor), 디스플레이 패널 (display panel) 및 기타 장치의 생산에 이상적입니다. 이 시스템의 독보적인 광학 설계에는 특수 광학 렌즈 (optical lens) 가 포함되어 있어 조명 효율을 극대화하고 고급 기능 도량형이 가능합니다. CANON MPA-3000 W는 매우 안정적이며, 열 작동 범위 (10 ~ 30 ° C) 내에서 작동하며 최대 처리량은 시간당 4,000 웨이퍼입니다. 균일 한 노출과 백슬라이드 및 플레어를 줄이기 위해 MPA 3000W의 주요 구성 요소는 N2 인클로저 이미징 챔버 (N2-enclosed Imaging Chamber) 내에 있습니다. [근접도] 및 [초점 감지] 센서는 노출 중에 마스크와 웨이퍼 사이의 간격을 모니터링하여 정확히 정렬할 수 있습니다. 이온 펌프 (Ion Pump) 진공실은 포토 마스크와 웨이퍼 사이의 영역에 진공을 생성함으로써 MPA-3000 W의 정확성에 추가로 기여합니다. 이 진공은 웨이퍼 (wafer) 표면에서 원치 않는 산소 흡수를 방지하여 웨이퍼 전체에 균일 한 노출을 보장합니다. 자동 조정 메커니즘을 사용하여 Mask Aligner 장치를 최적화하면 CANON MPA 3000W가 노출 중 기하학적 왜곡 및 온도 변화를 보정할 수 있습니다. 이렇게 하면 프로세스 변화를 줄이고 프로세스 안정성을 향상시킬 수 있습니다. 또한 Wafer Changer는 백슬라이드 및 스탠드 오프를 줄이는 데 도움이되며 자동화된 Wafer Transport Mechanism은 부드럽고 안전한 웨이퍼 처리를 보장합니다. 또한 CANON MPA-3000 W의 고급 X-Ray 소스는 일관된 빔 크기를 보장하여 균일 한 노출 매개 변수를 허용합니다. 반복적이고 안정적인 결과를 얻기 위해 MPA 3000W는 여러 가지 고급 기능을 사용합니다. 단일 샷 압축 (Single-shot Compression) 및 균일 노출 매개변수 (Uniform Exposure Parameter) 기술은 스탠드 웨이브 및 섀도우 효과를 최소화하는 반면 고급 노출 소스 (Exposure Source) 는 웨이퍼 전체에 균일 한 용량 분포를 제공합니다. 또한 '장애 감지 모드 (Fault Detection Mode)' 는 노출 프로세스를 모니터링하여 발생할 수 있는 모든 문제를 빠르고 효율적으로 감지할 수 있습니다. MPA-3000 W는 매우 정밀한 마이크로프로세서, 디스플레이 패널 및 기타 장치의 제작에 이상적인 기계입니다. 고급 옵티컬 및 트리거링 기술을 통해 CANON MPA 3000W 는 반복 가능한 결과와 일관되게 높은 처리량을 보장합니다.
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