판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Vista 810 #9187815

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AMAT / APPLIED MATERIALS Vista 810
판매
ID: 9187815
Ion source implanter.
AMAT/APPLIED MATERIALS Vista 810은 고급 반도체 처리를 위해 설계된 이온 임플랜터 및 모니터 도구입니다. 이 장치는 실리콘 기판에 도펀트를 이식하는 데 사용되고 실시간 프로세스 제어 (real-time process control) 기능을 제공하는 고효율적이고 정확한 장치입니다. AMAT Vista 810에는 질소 (N2), 포스핀 (PH3) 및 실레인 (SiH4) 이식 용 3 가스 공급원이 장착되어 있습니다. 또한 2 개의 소형 패러데이 컵 (Faraday Cup) 을 갖춘 고정밀 빔 전류 측정 장비를 사용하여 최대 0.5pA의 전류 해상도와 감도를 달성 할 수 있으며, 이온 밀도, 각도 발산 및 측면 스프레드를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 게다가, 그것은 최대 50mA의 높은 평균 빔 전류로 인해 기존의 임플랜터에 비해 훨씬 더 높은 용량 속도로 작동 할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Vista 810에는 자동 웨이퍼 처리 시스템과 매우 정확한 실시간 프로세스 제어를 제공하는 LSC (Integrated Laser Scatterometer) 장치가 있습니다. LSC 머신을 사용하면 레이어 깊이, 균일성, 프로파일 정확도와 관련하여 이식 프로세스를 모니터링할 수 있습니다. 또한, 에너지 수준, 용량, 임플란트 각도를 정확하게 제어 할 수있는 통합, 멀티 채널 디지털 셰이핑 툴도 포함되어 있습니다. 또한 Vista 810 은 데이터 아카이빙 자산 (data archiving asset) 과 같은 고급 분석 툴과 프로세스 모델링 수단을 통해 사용자가 시스템 성능을 정확하게 예측하고 모니터링할 수 있도록 합니다. 이러한 포괄적인 데이터 분석을 통해 사용자는 레이어 깊이, 균일성, 프로파일 정확도, 오염을 최적화할 수 있으며, 통합 모델 기반 제어 모델은 시스템 성능을 최적화할 수 있습니다. 전반적으로 AMAT/APPLIED MATERIALS Vista 810은 매우 정교하고, 안정적이며, 정확한 이온 임플랜터이며, 고급 반도체 처리를 위해 설계되었습니다. 탁월한 성능과 다양한 프로세스 제어 (process control) 기능을 제공하여 사용자가 도펀트를 정확하게 임플란트 (implantation) 로 임플란트 (implantation) 프로세스를 모니터링할 수 있게 해 줍니다.
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