판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum X Plus #9185368

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AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum X Plus
판매
ID: 9185368
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2005
High current implanter system, 12" Single wafer Energy option: LEAP Ultra low (0.2-80 keV) Stand-alone system enclosure Signal tower: Front / Back tool Processor: ISPM Processor Isocentric scanner Beamline: Ultralife QX+ ion source G1 Electrode: Graphite Gas panel box: Argon system and gas purge TEM Vacuum: LEYBOLD Turbo pump (3) Cryo pumps SPECTRA Residual gas analyzer (RGA) MMTX Transformer Gas panel: 8-Position: AsH3, PH3, GeF4, BF3, SiF4, CO2, 2-Blank Wafer loader: 4 Station SEMI standard wafer loader Hermos tag reader SEMI E84 OHT PIO Kits Low backside particle vacuum end effectors 2005 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum X Plus는 제조업체가 최고의 품질의 이온 임플란테이션을 달성하도록 설계된 최첨단 이온 임플란터입니다. 이 장치는 특허받은 이온 전달 및 제어 장비, 정밀한 에너지 수준 설정, 용량 (dose rate) 에 대한 온라인 모니터링을 통해 탁월한 성능을 제공합니다. 또한 기존의 이온 임플랜터에 비해 향상된 성능과 더불어 시스템 안정성과 견고성 (견고성) 을 제공합니다. AMAT Quantum X Plus '이온 전달 장치 (ion delivery unit) 는 매우 정확하게 제어되고 정확하게 측정 된 대상 기판에 이온을 전달 할 수 있습니다. 이 기계 는 "이온 '을 대상 기판 에서 정확 하게 초점 을 맞추고 지도 할 수 있는 사중극 설계 를 이용 한다. 이것 은 "이온 '이 필요 한 곳 으로 정확 하게 인도 되고 원하는 농도 가 달성 된다. 또한 APPLIED MATERIALS Quantum X Plus (APPLIED Quantum X Plus) 는 조정 가능한 에너지 수준 설정을 사용하여 이온이 필요한 에너지 레벨로 대상 기판에 들어가도록 하여 이식 프로세스를 더 잘 제어 할 수 있습니다. Quantum X Plus의 온라인 모니터링 도구를 사용하면 용량 (dose rate) 및 기판 적용 범위를 실시간으로 모니터링할 수 있습니다. 이를 통해 진행 중인 동안 이온 이식 프로세스가 최적화되고 모니터링됩니다. 또한 제조업체에 다양한 이식 용량 (implantation doses) 과 에너지 수준 (energy level) 의 사용에 관한 유용한 정보를 제공합니다. 이를 통해 필요한 경우 이식 프로세스를 조정할 수 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum X Plus의 견고성은 뛰어난 냉각 자산으로 더욱 향상되었습니다. 제조업체는 설비 온도를 낮출 수 있도록 설계된 고급 칠러 (advanced chiller) 를 배포하여 이온 (ion) 이 이식하는 동안 계속 집중되고 안정적으로 유지됩니다. 이 장치는 또한 작업하는 동안 용량 속도 (dose rate) 와 기판 커버리지 (substrate coverage) 를 계속 모니터링하여 이식 프로세스가 안정적이고 정확하게 유지 될 수있는 독특한 능동 이동 모델을 사용합니다. 결론적으로 AMAT Quantum X Plus는 차세대 이온 임플랜터 및 모니터로, 향상된 성능, 뛰어난 장비 안정성 및 견고성, 정확한 에너지 수준 및 용량 속도 모니터링을 제공합니다. 이온 전달 및 제어 시스템 (ion delivery and control system), 조절 가능한 에너지 수준, 온라인 모니터링, 강력한 냉각 장치 등 다양한 구성 요소가 모두 우수한 이온 이식 이식 프로세스에 기여합니다.
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