판매용 중고 USHIO UMA-1002-HC93NM #9096447

USHIO UMA-1002-HC93NM 노출 장비는 마이크로 스케일 및 나노 스케일 장치의 사진 해설을위한 고성능 최첨단 도구입니다. 이 시스템은 극히 정밀하고 레이저 간섭계 (laser interferometry-based) 정렬 장치를 특징으로하여 두 개의 크로스헤어 빔을 사용하여 포토 esist의 정확한 정렬 및 위치를 보장합니다. 이는 매우 얇은 저항층 (layer of resist) 을 처리 할 때에도 재현 가능한 결과를 보장합니다. 오늘날 차세대 집적회로 (integrated circuit) 의 요구를 충족시키기 위해, 이 기계는 자외선 노출 과정을 정확하게 제어하기 위해 다양한 조정 가능한 매개변수를 갖추고 있습니다. 여기에는 가변 기판 기능 및 다중 정렬 모드가 포함됩니다. 이 기능을 사용하면 노출 프로세스를 세밀하게 조정하여 더 큰 해상도와 정확한 패턴 (patterning) 을 얻을 수 있습니다. UMA-1002-HC93NM에는 높은 NA 오브젝티브 렌즈와 최첨단 파필드 컨트리메이터를 활용한 내장형 프로젝션 렌즈 (projection lens) 도구가 장착되어 있어 뛰어난 이미징 성능을 제공합니다. 투영 렌즈 에셋은 또한 장치의 피치 (pitch), 정렬 (alignment) 및 초점 (focus) 을 정확하게 조정하기위한 조정 가능한 오브젝티브 렌즈 모델을 포함합니다. USHIO UMA-1002-HC93NM은 313 nm의 UV 소스를 사용하며, 이는 전통적인 포토 esist와 협력 할 때 최적의 결과를 위해 조정됩니다. 이 소스는 감광 폴리머, 탄소 나노 튜브와 같은 다른 첨단 대안과도 함께 사용할 수 있습니다. 장비의 픽앤 플레이스 (pick-and-place) 기능을 사용하면 쿼츠, 유리, 플라스틱 필름과 같은 섬세한 기판을 정확하게 배치 할 수 있습니다. 이 시스템은 터치스크린 방식으로 작동하는 견고한 제어판 (Control Panel) 을 통해 다양한 매개변수에 쉽게 액세스하고 조정할 수 있습니다. 또한 사용자 친화적 (user-friendly) 인터페이스는 모니터링 기능을 제공하여 모든 매개변수를 정기적으로 조정하여 최적의 성능을 유지합니다. 전반적으로, UMA-1002-HC93NM은 현대, 첨단 반도체 산업의 요구를 충족시키기 위해 설계된 고급적이고 신뢰성이 높은 장치입니다. 이 안정적이고 정확한 도구는 뛰어난 이미징, 노출 프로세스 미세 조정을 위한 조정 가능한 매개변수, 설정 조정 및 성능 모니터링을 위한 직관적인 터치스크린 (touch-screen) 컨트롤을 위한 내장형 프로젝션 렌즈 머신 (projection lens machine) 을 갖추고 있습니다.