판매용 중고 ASM A 412 #9114074
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판매
ID: 9114074
웨이퍼 크기: 12"
LPCVD Vertical furnaces, 12"
Process: PH3 Doped poly/LPCVD
Software version: 6.80C
Heater type: MRL
Loader configuration, 4 or 5 loader: 4
Quartzware configuration
Outer tube: Quartz
Inner tube: Quartz
Boat: SiC boat
Boat fix ring/Cap quartz: Quartz
(6) Adiabatic plate
(1) SiH4, Type (L-type, Straight, Diffuser, Shower): Multihole, U/D/L
(1) O2, Type (L-type, Straight, Diffuser, Shower): Multihole, E
(1) PH3, Type (L-type, Straight, Diffuser, Shower): Multihole, U/D/L
Vacuum line configuration
Design: Original config
10 Torr Baratron model: MKS
10 Torr Baratron full scale setting: 10(F/S)
1000 Torr Baratron model: MKS
1000 Torr Baratron full scale setting: 1000(F/S)
ATM sensor model: MKS
Vent valve 1 (VV1) normally closed/open,plunger, diaphragm: Normally open,plunger
Check valve model: Fujikin
Check valve resistance pressure: 2.26 Kpa
Mainvalve type, Kitz or CKD: MKS
Slow valve, incorporated with mainvalve or separate(AV72,AV77): Separate (PV003)
Slow valve orifice size: 2.0mm (PV003)
Pressure range of vacuum gauge(Inficon Pirani gauge): 10T
Control table
Alarm watch/table setting
Temp (Low Alarm Limit(deg)/High Alarm Limit(deg)/Check Time(min))
U: 0.7/0.7/30S
CU: 0.7/0.7/30S
C: 0.7/0.7/30S
CL: 0.7/0.7/30S
L: 0.7/0.7/30S
Pressure (Low Alarm Limit(Torr)/High Alarm Limit(Torr)/Check Time(S)): 0.02/0.02/30S
MFC (Low Alarm Limit(%)/High Alarm Limit(%)/Check Time(S))
MFC1: N2: 2%/2%/10sec
MFC2: N2: 2%/2%/10sec
MFC3: N2: 2%/2%/10sec
MFC4: N2: 2%/2%/10sec
MFC5 SiH4: 2%/2%/10sec
MFC6: SiH4: 2%/2%/10sec
MFC7: SiH4: 2%/2%/10sec
MFC8: 1%O2/Ar: 1%/1%/10sec
MFC9: 5%PH3/N2: 2%/2%/10sec
MFC10: 5%PH3/N2: 2%/2%/10sec
MFC11: 5%PH3/N2: 2%/2%/10sec
MFC12: ClF3: 10%/10%/10sec
Transfer table
Wafer charge command (charge/discharge)
Side dummy
(5) Upper
(10) Lower
(100) Product
(5) Monitor
(105) Product & Monitor
Time
2nd Charge time(min): 0
Wafer cool time(min): 20min
Leak rate table
Base pressure low Limit(Torr): 1%
Base pressure High Limit(Torr): 1%
Leak Check check time(s): 60s
Leak limit(Torr): 1%
Retry Limit(count): 2
Loadlock settings
Loadlock configuration
O2 analyser model, NGK or Toray: PBI3.1 / PBI4.0
Process
L/A Keep value (ppm): 10ppm
N2 Flow max (L): 1300L
N2 Flow min (L): 300L
Ready
L/A Keep value (ppm): 10ppm
N2 Flow max (L): 1300L
N2 Flow min (L): 300L
Idle
L/A Keep value (ppm): 10ppm
N2 Flow max (L): 1300L
N2 Flow min (L): 300L
L/A O2 limit (ppm): 10ppm.
ASM A 412 는 단일 존 (zone) 실험실 확산 로와 함께 제공되는 액세서리로, 확산 프로세스에 사용되는 고온 처리 기능을 제공합니다. 확산 공정은 전자 제품, 유리, 분말 야금, 항공 우주 제조 등 다양한 산업에서 사용됩니다. 용광로 디자인은 두 가지 주요 구성 요소로 구성됩니다. 브래킷과 난로. "브래킷 '의 주된 목적 은 가열" 요소' 를 잡고 약실 에 단열 을 하는 것 이다. 난로 (hearth) 는 프로세스 부분과 다양한 설정 (setup) 가능성을 가능하게 하는 여러 액세서리를 보유합니다. 용광로는 조절 가능한 온도 컨트롤러와 수동 리프트를 통해 온도를 제어합니다. ASM A412는 길이 20 인치, 폭 7.5 인치, 깊이 7.5 인치의 난방 챔버를 갖추고 있습니다. 약실은 최대 2000 ° F (1093 ° C) 의 온도를 장기간 유지할 수 있습니다. 효율적인 열 전달 및 균일 한 가열을 위해, 챔버 (chamber) 는 챔버 (chamber) 의 길이를 따라 달리고 전기적으로 전력을 공급하는 단일 가열 코일을 특징으로합니다. 가열 요소는 효율적인 인슐레이션을 제공하는 구조에 포함됩니다. 이것은 열 손실을 크게 줄이고 챔버 전체에서 더 일관된 온도를 보장합니다. 412 퍼니스에는 전자 온도 컨트롤러 (electronic temperature controller) 가 포함되어 있는데, 이를 통해 사용자는 챔버의 온도 수준을 정확하게 모니터링하고 조정할 수 있습니다. 컨트롤러는 작동 온도 범위 (range of operating temperon) 로 설정할 수 있으며, 온도가 설정되도록 챔버 내부의 온도를 자동으로 조정합니다. 온도 컨트롤러에는 온도 제한 (over-temperate limit) 과 타이머 (timer) 가 포함되어 있으므로 용광로를 안전하고 효율적으로 사용할 수 있습니다. 메인 오븐 챔버 외에도 A412에는 2 개의 추가 액세서리 포트가 있습니다. 제 1 포트는 외부 가스 및/또는 진공선을 연결하는 데 사용되며, 제 2 포트는 재료 전열을 위해 튜브 퍼니스를 부착 할 수있다. 포트는 여러 가지 액세서리 (accessory) 를 연결하도록 설계되어 있어 용광로 (furnace) 를 사용할 때 더 유연합니다. 사용 측면에서 ASM A 412는 수동 및 반자동 작동을 위해 설계되었습니다. 원버튼 프레스 작동을 통해 ASM A412 (ASM A412) 는 빠르고 쉽게 사용할 수 있으며, 이는 리서치 또는 프로덕션 실행에 이상적입니다. "퍼니스 '는 최소한의 노력 으로 설치 하고 작동 할 수 있는데, 이것 은 확산 과정 이 신속 하고 효율적 으로 완료 될 수 있다는 것 을 의미 한다. 전반적으로, A 412는 단일 구역 실험실 확산 로와 함께 제공되는 액세서리 (accessory) 로, 확산 프로세스에 사용되는 고온 처리 기능을 제공합니다. 평생 무상수리가 제한되어 있으며, 산업용, 연구용, 교육용 시설에 모두 적합합니다. 단순한 설계, 직관적인 사용자 인터페이스, 신뢰할 수 있는 성능을 갖춘 A412 는 모든 실험실 확산 요구에 적합한 선택입니다.
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