판매용 중고 ANHUI BEQ BTF-1200C #9136548

ANHUI BEQ BTF-1200C 확산 용광로 및 액세서리는 반도체 산업에서 사용하도록 설계되었으며 탁월한 확산 처리 기능을 제공합니다. 이 퍼니스는 고효율 저항 기반 난방 요소로 양쪽 끝에서 가열 할 수있는 쿼츠 튜브 (quartz tube) 를 특징으로하여 높은 정밀 온도 제어 및 균일 한 난방을 허용합니다. 튜브 내부에는 처리 중 균일하고 균일 한 가열이 가능한 고품질 스프레더가 있습니다. 처리 영역의 온도는 ± 0.5 ° C의 정확도로 100 ~ 1200 ° C에서 조정할 수 있습니다. 또한, 용광로에는 통일 처리 환경을 촉진하기 위해 냉각팬 (cooling fan) 과 공기 순환 장비가 내장되어 있습니다. BEQ BTF-1200C 확산 로는 질소, 실리콘, 아르곤 등 여러 재료를 처리할 수 있으며, 최적의 결과를 위해 정확한 프로세스 제어를 지원하는 통합 프로세스 제어 시스템을 갖추고 있습니다. 이온 이식, 산화, 규산 화, 태양 전지 처리, 확산 등 다양한 공정을 위해 여러 공정 콘센트가 장착되어 있습니다. 또한, 성공적인 처리에 이상적인 환경을 보장하기 위해 내장형 자동 압력 모니터링 장치 (Automatic Pressure Monitoring Unit) 로 설계되었습니다. BTF-1200C는 진공, 비활성 가스, 산소, 질화물 등 다양한 대기 환경에서 요소를 처리합니다. 이 제품은 질소 생성 모듈이 내장되어 있어 반도체 웨이퍼 (wafer) 를 도핑할 때 효율성과 정확성이 향상됩니다. 이 에 더하여, 자동화 된 배기 "가스 '정제 장치 가 있는데, 이 기계 는 또한 배기" 가스' 를 계속 정화 시키며, 그 도구 를 깨끗 하게 하고 오염 되지 않게 한다. BTF-1200C 확산 로는 휴대성을 염두에 두고 설계되었으며, 완벽하게 휴대할 수 있도록 필요한 모든 구성 요소 (예: 펌프, 튜브) 를 포함합니다. 또한 과열, 과열, 긴급 정지 (emergency stop) 스위치의 경우 자동 차단 (automatic shoff) 과 같은 안전 조치를 갖추고 있습니다. ANHUI BEQ BTF-1200C 확산 로와 액세서리는 반도체 업계를 위한 안정적이고 효율적인 선택이며, 최적의 결과를 위한 탁월한 프로세스 균일성과 더불어 높은 정밀 온도 제어를 제공합니다. 이 제품은 장기간 사용할 수 있도록 설계되었으며, 반도체 제작을 위한 다양한 선택 (선택) 을 위해 모든 구성 요소를 포함하고 있습니다.