판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9134876

TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz는 포토 esist를위한 비접촉 노출 장비입니다. 이것은 노출, 정렬, 데이터 로깅 및 웨이퍼 처리 프로세스를 결합한 완전 통합되고 자동화된 시스템입니다. 이 장치는 높은 처리량을 제공하며 리소그래피 용 극한 자외선 (EUV) 포토 마스크 (photomask) 와 같은 복잡하고 매우 상세한 미세 구조를 생산하도록 설계되었습니다. TEL MARK-VZ에는 레이저 기반 투영기가 장착되어 있습니다. 초고밀도, 고대역폭, 멀티 스팟 레이저를 사용하여 고속, 정확한 노출을 달성합니다. 투영 도구를 사용하면 높은 해상도와 균일성을 가진 대형 웨이퍼 (wafer) 직경을 노출시킬 수 있습니다. 또한, 성능을 최적화하기 위해 투영 중에 레이저 빔 스팟 크기를 변경할 수 있는 고유하고 정밀한 가변 스팟 크기 모드 (Variable Spot Size Mode) 가 특징입니다. 이 자산은 불투명, 전송 및 회절 마스크를 포함한 다양한 포토 마스크 (photomask) 를 지원하며, 작은 패턴에서 큰 패턴까지 다양한 구조를 만들 수 있습니다. 이 모델에는 위치 및 방향을위한 웨이퍼 스테이지도 장착되어 있습니다. 웨이퍼 스테이지는 웨이퍼 로딩, 정렬 및 노출에 이중 축, 고정밀 정렬기 및 회전 장비를 사용합니다. 이 시스템은 웨이퍼 모서리를 스캔하고, 노출 전에 웨이퍼를 미리 정렬할 수 있습니다. 장치의 정밀도와 고속 회전은 정확하고 정확한 노출을 보장합니다. 도쿄 전자 마크 V-Z (TOKYO ELECTRON MARK V-Z) 의 레이저 기반 비 접촉 노출은 기계의 처리량을 극대화하며, 통합 웨이퍼 핸들러 및 스캔 도구는 웨이퍼 손상 및 오염을 줄이는 데 도움이됩니다. 또한, 에셋에는 각 웨이퍼의 노출 내역을 추적하는 데이터 로깅 모델이 내장되어 있습니다. 이 데이터는 품질 관리 및 품질 보증 용도로 사용될 수 있습니다. TEL MARK Vz (TEL MARK Vz) 는 포토리스 연주자에게 신뢰할 수 있고 정밀도가 높은 노출 장비가 필요할 때 탁월한 선택입니다. 최소한의 왜곡으로 복잡하고 매우 상세한 미세 구조를 생성 할 수 있습니다. 또한 조정이 가능하고 효율적으로 실행되며 일관된 결과를 산출합니다. TEL MARK V-Z는 산업 등급의 포토 마스크 생산을 위해 설계되었으며, 가장 까다로운 어플리케이션의 요구를 충족시킵니다.