판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9188258

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA 원자로는 실리콘, 갈륨 비소 및 티타늄과 같은 고급 재료를 처리하도록 설계된 다목적 장비입니다. RTP (Rapid Thermal Processing), CVD (Chemical Vapor Deposition), ALD (Atomic Layer Deposition), Photoresist stripping 및 Thermal Oxidation을 포함한 다양한 유형의 반도체 처리에 사용됩니다. 이 시스템은 다양한 프로세스 조건에서 작동할 수 있으며, 직경이 100mm ~ 300mm 범위의 기판을 지원할 수 있습니다. AMAT CENTURA 원자로는 2 개의 개별 챔버, 즉 로드 록 챔버와 공정 챔버로 구성됩니다. 로드록 챔버 (loadlock chamber) 는 프로세스 챔버 안팎으로 빠르게 기판을 로드하고 언로드하는 데 사용됩니다. 또한 공정 "챔버 '를 입자 와 오염 물질 로부터 보호 하는 데 사용 되며, 진공 장치 는 원치 않는 물질 을 급속 히" 펌프' 할 수 있다. 공정 챔버 (process chamber) 는 조절 가능한 압력, 온도 및 기타 공정 매개변수로 기판의 실제 처리를 위해 고안되었습니다. APPLIED MATERIALS CENTURA 원자로는 독점적 인 EFC (End-Point Fast Cycle) 기능을 특징으로하며, 이를 통해 기계는 일반적인 분이 아닌 몇 초 안에 프로세스 끝점에 도달 할 수 있습니다. 이 기능은 시간과 비용을 절감하여, 운영자가 다양한 프로세스 매개변수를 신속하게 최적화하여 효율성을 극대화합니다. 원자로는 또한 오존이없는 가열 요소를 사용하며, 이는 챔버의 정확한 온도 조절 및 균일 한 가열을 제공합니다. 이로써 모든 기판이 동일한 공정 (process) 조건에 따라 일관되고 고품질의 반도체 (semiconductor) 생산이 이루어집니다. CENTURA 원자로는 이러한 기능 외에도 특허를받은 다중 영역 냉각 도구를 사용합니다. 이 에셋은 챔버의 냉각 속도 (cooling rate) 를 최적화하여 프로세스 매개변수 (process parameter) 의 변화에 따라 챔버가 빠르게 조정됩니다. 이 모델은 또한 입자 오염, 전자 제품 분석 (electronics breakdown) 및 기타 잠재적 문제의 위험을 줄이는 데 도움이됩니다. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA 원자로는 반도체 업계에서 가장 안정적이고 고급 생산 도구 중 하나입니다. 정확하고, 안전하며, 반복 가능한 결과가 필요한 연구 기관, 대학, 산업 사용자에게 이상적입니다. 원자로는 최첨단 (최첨단) 기능을 통해 효율성과 신뢰성이 뛰어난 다양한 재료를 처리할 수 있다.