판매용 중고 SINGULUS / STANGL NPA #9227059

SINGULUS / STANGL NPA
ID: 9227059
Wet bench 2007 vintage.
SINGULUS/STANGL NPA (Nano-particle Applicator) 는 입자를 다양한 기판에 적용하도록 설계된 습식 스테이션입니다. 이 습식 "스테이션 '은 독특 한 입자 전달 방법 을 이용 하여 매우 다양 한 기판 에서 정확 한 결과 를 얻는다. STANGL NPA는 샤워 헤드 노즐 (shower head nozzle) 을 사용하여 기판 위의 입자를 분산시켜 입자 변위에 대한 정확한 나노 미터 스케일 제어를 허용합니다. 그 결과 입자가 기질에 정확하게 배치되어 필름 및/또는 광학 코팅, 나노 구조 표면, 촉매 승진 표면 화학 등 다양한 응용에 사용될 수 있습니다. 압축 공기 (compressed air) 또는 전기 펌프를 통해 구동되도록 설계되었습니다. 두 버전 모두 다양한 기능을 제공하여 사용자가 입자 분산을 더 잘 제어할 수 있습니다. 또한 SINGULUS NPA (SINGULUS NPA) 에는 입자의 분포를 더욱 정제하기 위해 조절 가능한 다 성분 노즐을 장착 할 수있는 기능이 있습니다. 또한, NPA 구조를 사용하면 대체 제트 스프레이 패턴을 사용하여 입자 전달의 속도와 정확도를 변화시킬 수 있습니다. SINGULUS/STANGL NPA (SINGULUS/STANGL NPA) 시스템에는 다양한 기능과 조절성 설정이 있으며, 이를 통해 애플리케이션에 맞게 개별 입자 전달 패턴을 변경할 수 있습니다. STANGL NPA는 온도 범위 (40 ° C ~ 500 ° C) 내에서 작동 할 수 있으며, 공압 범위 (0 ~ 6 bar) 는 입자 전달의 정확성을 원하는 패턴에 맞게 허용합니다. 입자 분산 (particle distersal) 에 대한 이러한 제어는 균일 한 입자 밀도를 생성하는 기능을 용이하게하여, 더 높은 처리량과 향상된 제품 수율을 가능하게한다. 또한 SINGULUS NPA에는 에이전트 솔루션 리럭스, 극한 온도 방지, 자동 입자 식별 시스템 (automated particle identification system) 과 같은 여러 가지 내장 안전 기능이 포함되어 있습니다. 이렇게 하면 입자 응용 프로그램 프로세스 (particle application process) 에 대한 제어 및 정밀도가 향상되는 동시에 잠재적인 위험을 최소화할 수 있습니다. 또한 NPA 는 손쉬운 유지 보수 작업을 수행할 수 있도록 설계되었으며, 모든 구성 요소에 대한 유지 보수 절차를 신속하고 안전하게 수행할 수 있습니다 (영문). 전반적으로 SINGULUS/STANGL NPA는 매우 다양한 습식 스테이션으로, 사용자에게 나노 미터 스케일 제어 및 정밀도를 가진 입자를 적용 할 수있는 기능을 제공합니다. 강력한 기능을 통해 사용자는 다양한 기판에 효율적이고 정확하게 입자를 적용하여 STANGL NPA (STANGL NPA) 를 다양한 업계에서 귀중한 도구로 만들 수 있습니다.
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