판매용 중고 KLA / TENCOR / THERMA-WAVE OP 2600 #9214771
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ID: 9214771
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1994
Film thickness measurement system, 8"
Multiple layers
Refraction index
Thick and thin film
Extinction coefficient
Reflectivity measurements
(2) Cassette loader stations
Thermoelectrically cooled diode laser: 675 nm
Lamp: Tungsten halogen
Measurements: Multi-layer and multi-parameter on thin ONO & OPO film stacks
Polish slopes: 7 micron x 7 micron
Wafer ranging: 4"-8"
Thick dielectric films
BPR >500A
BPE <500A
Spectrometry
Visible: 450 nm-840 nm
High index films: C-Si, Poly-Si, A-Si
1994 vintage.
KLA/TENCOR/THERMA-WAVE OP 2600은 정확하고 안정적인 웨이퍼 측정을 위해 설계된 고성능 웨이퍼 테스트 및 도량형 장비입니다. 이 시스템은 고급 광학 (advanced optics) 및 통합 도량형 (integrated metrology) 을 사용하여 재료 두께, 균일성, 지형, 거칠기 및 기타 매개변수를 포함하여 웨이퍼의 물리적 특성을 빠르고 정확하게 평가합니다. 이 장치는 고속, 자동 비 접촉 박막 측정 및 웨이퍼 표면 특성을 제공합니다. 자동 정밀 보정 (automated precision calibration) 프로세스를 통해 결과의 정확성을 보장하며, 고해상도 이미징 머신 (high-resolution imaging machine) 을 장착하여 웨이퍼 기능의 최대 해상도를 제공합니다. 이 도구는 사용자 친화적으로 설계되었으며, 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 를 통해 신속하게 작업하고 데이터를 분석할 수 있습니다. KLA OP 2600은 정확한 3D 나노 미터 레벨 측정을 위해 5 축 단계를 사용하며 전체 반 자동 매핑 기능을 제공합니다. 자동 로드/언로드 프로세스에 최대 8 개의 웨이퍼 (wafer) 를 저장할 수 있으므로 대량의 웨이퍼를 빠르고 쉽게 테스트하고 측정할 수 있습니다. 자산은 3D 차원에서 나노 미터 반복성으로 최대 0.5um 해상도로 웨이퍼 지형을 측정 할 수 있습니다. 또한 다양한 측정 및 테스트 기법을위한 다양한 특수 도량형 소프트웨어 (예: 고급 프로세스 제어 (Advanced Process Control)) 가 포함되어 있어 최적의 웨이퍼 품질 (Wafer Quality) 을 보장하는 프로세스 매개 변수를 실시간으로 모니터링할 수 있습니다. 또한 SPC 소프트웨어와 통합하여 프로세스 최적화를 강화할 수 있습니다. TENCOR OP 2600은 결함 분석 및 검사를 위해 자동 시력 도구 및/또는 광학 현미경으로 구성할 수 있으며, 고급 이미지 분석 및 결함 인식을위한 다양한 소프트웨어 옵션을 포함합니다. 또한, 사용자 정의 매개변수로 모델을 업그레이드하여 업계 표준과의 호환성을 보장할 수 있습니다. 전반적으로 THERMA-WAVE OP 2600은 웨이퍼 특성을 정확하게 측정하고 분석하기위한 포괄적이고 저렴한 솔루션입니다. 최첨단 도량형 (Metrology) 과 이미징 (Imaging) 기술로 설계되어 높은 반복성과 신뢰성을 지닌 정확한 결과를 제공합니다. 다양한 Wafer Manufacturing 애플리케이션에 적합하며 품질 관리 (Quality Control) 및 프로세스 최적화 (Process Optimization) 를 위한 효율적인 솔루션을 제공합니다.
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