판매용 중고 NIKON NSR 1505 G6E #9299964

NIKON NSR 1505 G6E Wafer Stepper는 뛰어난 포토 마스크 처리 기능을 제공하는 매우 향상된 웨이퍼 스테핑 도구입니다. 높은 생산성과 표면 균일성이 필수적인 정밀 임계 반도체 제작 (precision-critical semiconductor fabrication) 프로세스에 이상적인 선택입니다. NIKON NSR-1505G6E는 반도체 제작 공정의 대기를 개선하기 위해 설계된 고급 웨이퍼 스테퍼입니다. 탁월한 성능, 반복성과 함께 뛰어난 wafer mask registration 정확성과 매끄러움을 제공하도록 설계되었습니다. 광학 슬릿 스캐닝 (optical slit scanning) 장비를 제공하여 오염 입자를 줄이고 선명하거나 결함이 없는 이미지를 제공합니다. 이 웨이퍼 스테퍼는 최고 15K Hz의 높은 주파수로 시간당 최대 200 웨이퍼 (wph) 의 처리량을 달성하여 빠른 웨이퍼 스테핑 작업을 수행할 수 있습니다. 최대 450mm x 450mm (450mm x 450mm) 의 이미지 크기를 제공하는 노출 시스템 (Exposure System) 을 통해 뛰어난 정확도로 대형 기판을 덮고 가져올 수 있습니다. 또한 NSR 1505 G6E 는 독립적인 멀티 레이어 패턴 설계 및 자동 스테핑 (auto-steping) 기술을 통해 안정적인 이미지 품질과 이미지 등록 정확성을 보장합니다. 또한 이 도구는 패턴 정렬, 컨투어 (Contour) 및 자동 모서리 (Auto-Edge) 기능과 같은 고급 프로세스 기능을 제공합니다. 이러한 기능을 사용하면 다른 photomask 레벨을 효율적으로 패턴화하고 에칭할 수 있습니다. 이 도구는 또한 강력한 냉각 장치 (cooling unit) 로 설계되어 긴 노출 주기 동안 안정적인 작동 온도를 제공합니다. 또한 자동 정렬 뷰어 (Automatic Alignment Viewer) 와 프로그래밍 가능한 에지 정렬 관리 머신 (Edge Alignment Management Machine) 을 통해 생산 과정에서 정밀하고 뛰어난 품질을 제공합니다. NSR-1505G6E는 IC, DRAM 및 LCD 제작과 같은 정밀 애플리케이션에 적합합니다. 사용자 친화적 인 인터페이스가 특징이며 탁월한 정확성과 매끄러움을 제공합니다. 스퀘어 (square), 타원형 (oval) 또는 원형 기판 (circular substrate) 과 같은 다양한 웨이퍼 모양을 처리하는 6 베벨 스캐닝 기술이 제공됩니다. 전반적으로 NIKON NSR 1505 G6E 웨이퍼 스테퍼 (Wafer Stepper) 는 정밀 반도체 제작 프로세스의 대기를 향상시키는 데 도움이되는 고도의 도구입니다. 고정밀 포토 마스크 에칭 응용 프로그램을위한 신뢰할 수있는 선택입니다. 처리량을 높이고, 표면 품질을 향상시키고, 반복 가능한, 결함이 없는 이미지를 제공하도록 설계되었습니다.