판매용 중고 NIKON NSR 1505 G6E #9261837

NIKON NSR 1505 G6E는 대용량 웨이퍼 포토 마스크 생산을 위해 설계된 완전 자동화 웨이퍼 스테퍼입니다. 고급 스캐닝 정확성과 처리량을 제공하며, 부품 교체 시간이 단축됩니다. NIKON NSR-1505G6E는 6 단계, 단일 웨이퍼 로딩 장비로 고정밀 패턴 웨이퍼를 효율적으로 생산할 수 있습니다. NSR 1505 G6E는 최대 k1 선형이 0.5% 이상인 2, 6, 8, 12 및 15 인치 웨이퍼를 처리하도록 설계되었습니다. 최대 노출 파장은 193 nm, 초점 조정은 2.5 nm 미만입니다. 외부 광학 시스템은 향상된 처리량과 정밀 패턴을 제공합니다. 또한 5 나노 미터 또는 그 이상의 범위에서 고성능 레티클의 미세 패턴화를 위해 SBS (Sub-Beam Writing Unit) 를 제공합니다. NSR-1505G6E에는 신뢰할 수 있는 운영 및 프로세스 최적화를 보장하는 다양한 기능이 있습니다. 온보드 영숫자 디스플레이 (on-board alphanumeric display) 는 시스템 설정에 대한 액세스를 제공하며 시스템 진단 및 성능 매개변수를 시각적으로 나타냅니다. 최첨단 디지털 제어 소프트웨어 (Advanced Digital Control Software) 는 가장 어려운 프로세스에서도 최적의 처리량을 보장합니다. 또한 한 번만 설정하고 즉시 리콜 할 수있는 자체 포함 자동 교정 도구 (auto-calibration tool) 가 있습니다. NIKON NSR 1505 G6E 의 매우 정확하고 안정적인 단계는 고정밀도로 일관되게 고품질의 부품 생산성을 제공하며, 이를 통해 생산성을 높이고 생산성을 높일 수 있습니다. 자동 웨이퍼 정렬기 (wafer aligner) 는 웨이퍼 척 (wafer chucks) 변위 오류를 보완하고 수동 재정렬의 필요성을 최소화합니다. NIKON NSR-1505G6E에는 다양한 추가 기능이 장착되어 있어 운영 중 안정성을 극대화하고 부품 변경이 용이합니다. 다양한 부품을 수용하는 자동화된 척 (chuck) 자산이 특징이며, 수동 부품 전송으로 인한 비생산적인 시간을 줄입니다. 또한 정렬 혼돈 연산을 줄이기 위해 이중 단계 노출 (dual-stage exposure) 과 많은 부품을 용이하게하기위한 여러 단계 노출 (multiple stage exposure) 이 특징입니다. NSR 1505 G6E 는 매우 효율적이고 신뢰할 수 있는 웨이퍼 스테퍼로, 정확도가 높은 결과를 제공하도록 설계되었습니다. 고급 기능은 정확한 스캐닝 정확성과 생산 시간 단축을 보장합니다. 강력한 디자인과 사용이 간편한 인터페이스를 갖춘 NSR-1505G6E 는 대용량 웨이퍼 포토마스크 (photomask) 제작에 이상적인 솔루션입니다.