판매용 중고 NIKON NSR 1505 G6E #293602162
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ID: 293602162
Stepper
Reduction projection optical system:
Numerical aperture: 0.54
Reduction ratio: 5:1
Lens distortion: Within ±0.12 µm (for X and Y)
Exposure wavelength: G-Line (458 nm)
Exposure area:
Diameter: 24.74 mm
15 mm x 15 mm
13.42 mm x 20.14 mm
Illumination optical system:
Exposure power: 300 m-W/cm²
Illumination uniformity: Within ±2.5%
Integrated exposure stability: Within ±2% (For ≥30 mJ/cm²)
Exposure time setting range: 0.05 sec to 9.9999 sec and 0 sec
Ultra high pressure mercury lamp: 1000 W
Auto focus system:
Oblique incident light detection method
Repeatability: ±0.02 µm
Vertical stroke: 0.6 mm
Focus offset entry range: ±30 µm.
NIKON NSR 1505 G6E는 나노 미터 수준에서 정확한 리소그래피 처리를 가능하게하도록 설계된 고급 웨이퍼 스테퍼입니다. 이 도구는 최첨단 기술을 활용하여 실리콘 웨이퍼의 정확하고 매우 효율적인 패턴 이미징을 제공합니다. 이 장비는 고성능 이미징 스테이지와 2개의 독립적으로 제어 가능한 리소그래피 스테이지 (lithography stage) 를 갖추고 있어 고해상도 이미징을 위한 정확하고 다중 노출 정렬이 가능합니다. 시스템은 또한 정확한 이미지 초점을 보장하기 위해 고정밀도 포커스 감지 장치를 사용합니다. NIKON NSR-1505G6E에는 최대 6,000 mm/s 스캔을 지원하는 고속 스캐닝 머신과 1.7 나노미터의 위치 정확도를 달성 할 수있는 높은 정확도 포지셔닝 툴이 장착되어 있습니다. 이 도구는 또한 엘리베이터 빔 스캔 (Elevator Beam Scan) 기능을 제공하여 단일 노출 단계에서 다중 패턴 노출이 가능합니다. 이 기능은 패턴 노출이 15 개 이상의 패턴을 가진 모든 디자인을 성공적으로 덮을 수있는 독특한 "중첩 (overapping)" 알고리즘과 결합됩니다. NSR 1505 G6E는 또한 사용자 친화적이고 유연하도록 설계되었습니다. 이 도구에는 직관적인 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphical User Interface) 가 장착되어 있어 사용자 제어가 용이하며, 리소그래피 레시피 및 프로그램 세트를 변경할 수 있습니다. 또한, 이 스테퍼는 사전 정의 된 노출 패턴뿐만 아니라 Deep 자외선 (DUV), KrF 및 i-line을 포함한 여러 널리 사용되는 석판화 노출 방법과 호환되도록 설계되었습니다. 이 도구는 또한 노출 중 웨이퍼를 보호하기위한 멀티 레이어 웨이퍼 홀더 (multi-layer wafer holder) 를 포함하여 유지 관리가없는 작업을 제공합니다. 전반적으로 NSR-1505G6E는 강력하고 고급 웨이퍼 스테퍼로, 나노 미터에서 미크론 스케일까지 정확한 리소그래피 기능을 제공합니다. 빠른 스캐닝 에셋 (Scanning Asset) 과 포지셔닝 (Positioning) 의 정확성은 칩과 기타 전자 제품의 제작에 중요한 효율적이고 정확한 리소그래피 이미징을 가능하게 합니다. 이 모델의 유지 보수 (maintenance-free) 와 사용자 친화적 (user-friendly) 인터페이스를 통해 석판화 요구에 따라 안정적이고 다용도 있는 웨이퍼 스테퍼 (wafer stepper) 를 찾는 조직 및 개인을위한 이동 도구가 됩니다.
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