판매용 중고 NIKON i7 #9353968

NIKON i7은 반도체 집적 회로 제작을 위해 설계된 고급 웨이퍼 스테퍼입니다. 이 장치는 0.1 마이크로미터의 해상도와 4 x 8 인치의 필드 크기로 높은 정확도와 해상도를 제공합니다. 2 단계 5 축이 장착되어 있으며, 전체 웨이퍼 표면에 대해 조정 된 방식으로 빠른 스캔을 제공합니다. 이로 인해 노출 및 스캔 애플리케이션의 처리량이 증가합니다. NIKON I 7은 100 ~ 2500 초의 광범위한 처리 시간을 지원하는 고속 스캔 컨트롤러를 갖추고 있습니다. 이렇게 하면 전체 처리 속도를 높이면서 동작 제어가 빠르고 정확해집니다. 또한 웨이퍼 스테퍼 (wafer stepper) 는 열 및 레이저 기반 센서가 모두 장착 된 정렬 시스템을 제공하여 높은 정밀도를 보장합니다. I7은 또한 1X-4X 다중 레벨 리소그래피, 다중 초점 및 학생 수정 기능과 같은 고급 리소그래피 기능을 지원합니다. 이러한 기능은 고밀도 패턴화를 가능하게 하며, 다중 패턴화를 위한 고수율 (HI) 을 제공합니다. 또한이 장치는 레이저 기반 노출 장비를 특징으로하여 복잡한 구조의 전체 필드 노출 (full-field exposure) 을 허용합니다. 설계 측면에서 I 7은 사용자 친화적이고 효율적입니다. 자체 최적화 센서, 터치 패널, 그리고 프로세스를 정확하게 모니터링 할 수있는 카메라 기반 시스템을 갖추고 있습니다. 또한 통합 데이터 로깅 (data logging) 및 작업 추적 시스템 (job tracking system) 을 통해 분석 및 생산성 측정 결과를 제공합니다. 또한, 색상 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphical User Interface, GUI) 를 통해 연산자는 노출 알고리즘과 노출 알고리즘을 쉽게 전환 할 수 있습니다. NIKON i7에는 Photomask 디자인, Wafer Map Alarm, Pattern Repair Automation, Auto exposure 및 Edge Tracing과 같은 종합적인 프로그래밍 도구도 제공됩니다. 이러한 도구는 빠르고 자동화된 설계 및 정렬 작업을 가능하게 하며, 높은 정확도를 보장합니다. 따라서 디바이스는 프로세스 최적화 및 반복 가능한 결과에 이상적입니다. 모듈 식 구조를 통해 기존 석판화 시스템에 유연하고 쉽게 통합 할 수 있습니다. 마지막으로, NIKON I 7은 사용자가 작업 중 오류를 동적으로 모니터링하고 조정할 수 있는 고급 제어 옵션을 제공합니다. 이를 통해 효율성을 높이고 프로세스를 실시간으로 최적화할 수 있습니다. 이 장치는 또한 자체 설명 (self-explanatory) 알고리즘과 사용자가 설정을 사용자정의할 수 있는 매개변수를 포함하는 머신 레벨 라이브러리 (machine level library) 를 제공합니다. 전반적으로, i7은 포괄적인 제어 및 유연성을 제공하여, 고정밀 리소그래피 어플리케이션에 이상적인 선택입니다.