판매용 중고 ASML XT 1250D #9391534

ASML XT 1250D 웨이퍼 스테퍼는 마이크로 일렉트로닉스 제조 공정 속도를 높이기 위해 설계된 초고성능 석판화 장비입니다. 단파, 248 nm KrF 레이저 투영 시스템을 사용하며 0.13 미크론 해상도의 인쇄 이미지를 생성 할 수 있습니다. 이 기계는 완전 적재 된 스캐너 장치의 이미징 성능과 임계 차원 원자력 현미경의 속도 (speed of critical-dimension atomic force microscope) 를 결합합니다. 이 기계는 집적 회로, MEMS 및 광전자 부품 (optoelectronics component) 에서 회로 패턴을 쉽게 생산할 수 있도록 설계되었으며, 일관성 및 처리량을 유지하면서 정확도를 0.13 미크론으로 낮췄습니다. 5 축 로봇 동력 웨이퍼 스테이지와 2 차원 실리콘 레티클 마스크 스테이지가 장착되어 있습니다. 마스크 스테이지는 15.2mm/s의 속도로 2 개의 축으로 이동할 수 있으며, 웨이퍼 스테이지는 11.2mm/s의 속도로 5 개의 축으로 움직일 수 있습니다. 웨이퍼 스테퍼는 또한 온도 조절, 공기 여과 시스템, 활성 질소 시스템을 갖춘 온보드 클린 룸을 갖추고 있습니다. 기계의 광학 기계에는 광학 레이저 소스, 콘덴서 광학 카메라, 이미지 형성 렌즈 등이 있습니다. 또한, 기계의 필드 내 스티칭 (intra-field stitching) 기능을 사용하여 다른 기판에 패턴을 형성 할 수 있습니다. XT 1250D 웨이퍼 스테퍼에는 고급 안정화 (stabilization) 및 정렬 (alignment) 기능이 제공되어 웨이퍼 스캐닝 및 노출 시 반복성과 정확한 정렬 정확성을 보장합니다. 또한 단계 높이를 측정 할 수있는 개선 된 나노 미터 해상도 센서 (Alignment and critical dimension features) 를 제공합니다. 또한, 스테퍼에는 고해상도 금속 선과 접점을 수용 할 수있는 고정밀 계량 (high-precision metering) 도구가 있습니다. ASML XT 1250D 웨이퍼 스테퍼는 집적 회로, MEMS 및 optoelectronics 구성 요소의 다양한 요구 사항에 사용될 수있는 강력하고 효율적인 석판화 도구입니다. 탁월한 이미징 성능, 깨끗한 환경, 그리고 대용량 회로 패턴 (Wafer) 을 생산할 수 있는 안정적인 처리량을 제공합니다. 이 기계는 반도체, MEMS, 광전자 산업의 산업 및 R&D 조직에 이상적입니다.