판매용 중고 ASML XT 1250D #293624486

ASML XT 1250D는 반도체 장치 제조를 위해 설계된 웨이퍼 스테퍼입니다. 초미세 기능 처리가 가능한 4 트랙 장비입니다. 이 시스템은 250 nm에서 1700 nm 사이의 노출을 제공 할 수있는 LaserRay Reflex 3 레이저 소스와 405 nm 파장의 통합 고감도 이미징 헤드를 사용합니다. 이 장치의 200mm x 300mm 행렬은 0.2 마이크로미터 (0.2 마이크로미터) 의 픽셀 크기를 가진 고해상도 이미지를 처리 할 수 있으며, 고급 반도체 컴포넌트의 서브 미크론 패턴화가 가능합니다. 이 기계에는 또한 지능형 오버랩 제어 (Intelligent Overlap Control), 패턴 일치 (Pattern Matching) 및 필드 일치 (Field Matching) 와 같은 고급 설계 기능이 포함되어 있어 반도체 웨이퍼 위에 이미징 헤드를 정확하게 배치할 수 있습니다. 또한 빔 트랙 (Beam Track) 및 포커스 제어 도구 (Focus Control Tool) 를 사용하여 이미징 빔을 정확하게 배치하고 초점을 맞출 수 있습니다. 이는 최상의 형상을 올바르게 인쇄하는 데 매우 중요합니다. XT 1250D는 고급 명암비 해상도에 최첨단 열 이미지를 사용하며, 최대 작동 온도는 최대 370 ° C입니다. 또한, 이 자산은 마이크로 용량, 하이빔 전류 모니터, 실시간 결함 모니터링 및 5 레벨 안전 연동 모델을 포함한 다양한 안전 기능을 갖추고 있습니다. 더욱이, 이 장비는 반복성과 재현성의 수준을 갖춘 고정밀 단계를 특징으로합니다. 광학 정렬 현미경 (Optical Alignment Microscope) 은 포지셔닝 정확도와 검증에 사용되며, 웨이퍼가 정사각형이고 스테이지를 중심으로 하도록 도와줍니다. 또한, 자동화 로봇 (Automation Robot) 을 최대 3개까지 장착하여 시스템을 구성할 수 있으므로 처리 속도가 빨라지고 시스템 자원 활용도가 향상됩니다. 마지막으로, 정확한 스테퍼 성능과 안정성에 대한 필요성이 계속 높아짐에 따라 ASML XT 1250D (ASML XT 1250D) 는 독점 커뮤니케이션 링크를 통해 이러한 요구를 충족시켜 실시간 유닛 모니터링 (real-time unit monitoring) 을 제공하도록 최적화되었습니다. 또한 내부 네트워크와 통합하여 데이터 분석 (data analysis) 및 원격 프로세스 모니터링 (remote process monitoring) 기능을 제공합니다. 전반적으로, XT 1250D는 마이크로 패브릭션 및 반도체 장치 생산을위한 매우 생산적인 고정밀 환경을 제공합니다.