판매용 중고 DISCO DCS 141 #9382615

ID: 9382615
웨이퍼 크기: 4"-6"
빈티지: 2008
Automatic wafer cleaning system, 4"-6" Tool panel key Spinner table, 4"-6" Cleaning method: High pressure cleaning Table rotation speed: 0-3,000 RPM Spinner discharge pressure: 2.0 - 12.0 MPa Gas: N2, air Voltage: 100 V AC, 1.5 kVA, 50/60 Hz, Single-phase 2008 vintage.
DISCO DCS 141 Wafer and Mask Scrubber는 반도체 제조 공정에 사용되는 웨이퍼와 마스크를 청소하도록 설계된 최첨단 정밀 클리닝 머신입니다. 독특한 설계로 시간당 최대 600 웨이퍼의 고속 생산 및 청소가 가능하며, 표면 정확도는 100 - 130 m입니다. DISCO DCS141 웨이퍼 (Wafer) 와 마스크 스크러버 (Mask Scrubber) 는 종합적이고 철저한 청소 성능을 위해 고급 스크러빙 장비와 결합 된 초음파 및 유기 습기 제의 맞춤형 조합을 사용합니다. DCS 141 Wafer 및 Mask Scrubber는 모듈식 컴팩트한 디자인의 생산 라인에 완벽하게 맞도록 설계되었습니다. 2 단계 웨이퍼 바구니 시스템을 갖추고 있으며, 하나의 부하에서 최대 600 개의 웨이퍼를 처리 할 수 있습니다. 튼튼 한 "스테인레스 '강철 공사 는 기계 가 생산 의 엄격 함 을 견딜 수 있도록 만들어진다. 이 장치는 또한 먼지가없는 작업을위한 통합 먼지 배기 장치 (dust exhaust unit) 와 철저한 청소를위한 자동 청소 린스 머신 (rinse machine) 을 갖추고 있습니다. DCS141 Wafer 및 Mask Scrubber의 청소 성능은 2 대 1입니다. 초음파 와 "제트 '동작 은" 웨이퍼' 와 "마스크 '의 표면 을 문지르고" 플럭스 리저브', 기름, 먼지 및 입자 와 같은 오염 물질 을 안전 하게 제거 하는 반면, 거품 스크러빙 암 은 완고 한 입자 를 더 깨끗 하게 한다. 사용 된 클리닝 액체 (cleaning liquid) 는 독성이 없으며 자동 클리닝 도구는 일관된 성능을 보장하기 위해 액체를 규칙적으로 대체합니다. DISCO DCS 141 Wafer 및 Mask Scrubber의 고급 컨트롤은 쉽게 작동하고 관리할 수 있습니다. 사용자 친화적 인 인터페이스를 통해 주기 매개변수 (cycle parameters) 를 빠르게 설정하고 실시간 판독값을 사용하여 클리닝 프로세스를 모니터링할 수 있습니다. 인텔리전트 HMI (Intelligent HMI) 는 내장형 경보 기능을 제공하며 여러 스크러버의 원격 모니터링 및 제어를 지원합니다. DISCO DCS141 웨이퍼 (Wafer) 와 마스크 스크러버 (Mask Scrubber) 는 반도체 업계의 고속 웨이퍼 및 마스크 생산을 위해 설계된 안정적이고 효율적이며 고성능 클리닝 머신입니다. 고급 클리닝 성능, 견고성 강화 (Rugged Construction), 사용자 친화적 (User-Friendly) 제어 기능을 통해 고품질의 결과와 장기적인 신뢰성을 위한 최적의 선택이 가능합니다.
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