판매용 중고 DISCO DCS 141 #293597233

ID: 293597233
Wafer cleaning system.
DISCO DCS 141은 다양한 웨이퍼와 포토 마스크 (photomask) 를 청소할 수있는 최첨단 웨이퍼 및 마스크 스크러버입니다. 직경이 최대 6 "인 웨이퍼와 마스크의 효율적이고 고품질 스크러빙을 위해 설계되었습니다. DISCO DCS141 (DISCO DCS141) 은 균일 하고 선택적 인 청소 기능을 모두 사용하여 웨이퍼와 마스크를 빠르고, 반복적이고, 정확하게 청소할 수 있도록 설계되었습니다. DCS 141 은 고밀도 엔지니어링 및 맞춤형 구성요소를 갖춘 견고한 플랫폼 설계로, 까다로운 운영 환경에서도 최적의, 안정적인 운영을 보장합니다. 스크러버는 주 스크러버 장치, 웨이퍼/마스크 테이블, 리프팅 및 정렬 장치 및 컨트롤러 시스템으로 구성됩니다. 스크러버 (scrubber) 는 사용자 친화적 인 터치 패널 인터페이스로 제어되며, 사용자는 스크러버 속도 (scrubber speed), 가스 압력 (gas pressure) 및 클리닝 시간 (cleaning time) 과 같은 매개변수를 응용 프로그램의 요구 사항에 가장 적합하도록 사용자 정의할 수 있습니다. 스크러버 (scrubber) 에는 2 단계 여과 시스템과 최고의 품질과 균일 한 청소가 가능한 완전히 통합 된 스크러빙 프로세스가 장착되어 있습니다. 스크러빙 (scrubbing) 과정에서 이온화 된 질소와 특수 공식화 된 세제가 웨이퍼 (wafer) 또는 마스크 (mask) 에 뿌려져 잠재적 오염이 없는 중요한 접촉 지점을 포함하여 웨이퍼/마스크 (wafer/mask) 의 모든 표면을 스크러빙할 수 있습니다. 또한, DCS141은 불필요한 기계적 마모와 눈물 (tear) 을 제거하고 반복 가능한 성능을 보장하는 혁신적인 스크러빙 모션 디자인을 통합합니다. DISCO DCS 141 스크러버는 크롬, 크롬 프리, 크롬 실리콘과 같은 다양한 종류의 리소그래피 마스크를 극도로 정확하게 청소하도록 설계되었습니다. 또한 포토 리토 그래피 (photolithography) 의 중요한 요구 사항을 충족시키기 위해 출하하기 전에 포토 마스크 (photomask) 를 효과적으로 건조시키는 신뢰성이 높고 유지 보수가 적은 핫 에어 건조 기술이 특징입니다. 가동성을 보장하고 가동 중지 시간을 줄이기 위해, DISCO DCS141 은 반도체/전자 업계의 변화하는 애플리케이션 요구를 충족시키기 위해 손쉽게 재구성할 수 있도록 설계되었습니다. 또한 스크러버 (scrubber) 는 사용자 친화적이며 사용이 간편한 소프트웨어 제어 기능을 제공하며 스크러빙 프로세스를 추적 및 문서화하는 운영 보고서를 제공합니다. 전반적으로 DCS 141은 고밀도, 신뢰할 수있는 웨이퍼 및 포토 마스크 스크러빙을위한 이상적인 솔루션입니다. 탁월한 성능, 유연한 구성, 가장 까다로운 스크러빙 (scrubbing) 요구 사항을 충족하는 안정적인 운영 기능을 제공합니다.
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